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日本SIGMAKOKI西格瑪超級反射鏡TFHSM
采用了離子束濺射(IBS)鍍膜方式,獲得了細密而無缺陷的高質量光學膜。
反射鏡基板采用特殊的高精密拋光技術制造,其表面粗糙度小于Ra0.1nm的低散亂基板。
發揮多年積累的光學薄膜設計經驗,實現了高達99.999%的高反射率。
基板和光學膜的散亂損失非常小,用其構建法布里-珀羅腔的話,可得到非常窄的光譜帶寬和高銳度。
有使用波長為532nm和1064nm的兩個系列。
材料 | 合成石英 | ![]() |
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鍍膜 | 正面 電介質高反射多層膜 反面 電介質防反射多層膜 | |
入射角 | 0° | |
基板面型精度 | λ/10 | |
平行度 | <5″ | |
表面質量 | 10-5 | |
有效直徑 | 外徑的80% | |
反面反射率 | <0.15% | |
形狀 | 平面基板 |
功能說明圖 | 外形圖 |
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![]() | ![]() |
型號 | 適用波長 | 外徑 φD | 厚度 t | 反射率※1 | 損失※2 |
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TFHSM-12.7C06-532 | 532nm | φ12.7mm | 6mm | 99.995% | 20ppm |
TFHSM-25C06-532 | 532nm | φ25mm | 6mm | 99.995% | 20ppm |
TFHSM-25.4C06-532 | 532nm | φ25.4mm | 6mm | 99.995% | 20ppm |
TFHSM-30C06-532 | 532nm | φ30mm | 6mm | 99.995% | 20ppm |
TFHSM-50C08-532 | 532nm | φ50mm | 8mm | 99.995% | 20ppm |
TFHSM-12.7C06-1064 | 1064nm | φ12.7mm | 6mm | 99.999% | 8ppm |
TFHSM-25C06-1064 | 1064nm | φ25mm | 6mm | 99.999% | 8ppm |
TFHSM-25.4C06-1064 | 1064nm | φ25.4mm | 6mm | 99.999% | 8ppm |
TFHSM-30C06-1064 | 1064nm | φ30mm | 6mm | 99.999% | 8ppm |
TFHSM-50C08-1064 | 1064nm | φ50mm | 8mm | 99.999% | 8ppm |
日本SIGMAKOKI西格瑪超級反射鏡TFHSM
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