池田屋HORIBA堀場(chǎng) EV2.0 LR 小型等離子發(fā)射監(jiān)測(cè)器
池田屋HORIBA堀場(chǎng) EV2.0 LR 小型等離子發(fā)射監(jiān)測(cè)器
使用反應(yīng)濺射將觸摸面板和玻璃基板的薄膜沉積在基材上。反應(yīng)性濺射法是在真空中使濺射粒子與氧或氮發(fā)生化學(xué)反應(yīng)來(lái)成膜的方法，但定量供給反應(yīng)氣體的方法會(huì)導(dǎo)致成膜速度變慢，難以實(shí)用化。 。然而，已知反應(yīng)模式和金屬模式之間存在不穩(wěn)定的過(guò)渡模式，沉積速率較快，且沉積速率變化較大，可以通過(guò)基于反應(yīng)氣體的控制來(lái)維持過(guò)渡區(qū)域。等離子體發(fā)射強(qiáng)度。
等離子發(fā)射控制器RU-1000使用傳感器檢測(cè)等離子發(fā)射強(qiáng)度，并使用 的算法向內(nèi)部制造的高速響應(yīng)質(zhì)量流量控制器指示適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)氣體流量，從而使成膜速度接近于金屬模式并實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的成膜。
業(yè)務(wù)部門(mén)：半導(dǎo)體
產(chǎn)品類別：干燥過(guò)程控制
制造商：HORIBA STEC, Co., Ltd.
特征
應(yīng)用
下載
等離子發(fā)射控制器RU-1000用于提高沉積速度。通過(guò)控制過(guò)渡區(qū)的反應(yīng)氣體，與定量供給反應(yīng)氣體的方法相比，成膜速度可以提高數(shù)倍。
通過(guò)將多個(gè)等離子體發(fā)射強(qiáng)度傳感器安裝到寬幅基板上并利用這些信號(hào)高速控制反應(yīng)氣體，可以實(shí)現(xiàn)極其均勻的成膜。
等離子發(fā)射控制器RU-1000是一款售后服務(wù)優(yōu)良的國(guó)產(chǎn)產(chǎn)品，由專門(mén)從事光學(xué)技術(shù)的Horiba和擁有優(yōu)秀氣體控制技術(shù)的Horiba Estec制造。
制造商特點(diǎn)
在生產(chǎn)等離子體發(fā)射控制器時(shí)，HORIBA, Ltd.負(fù)責(zé)測(cè)量等離子體發(fā)射強(qiáng)度的基本光學(xué)設(shè)計(jì)，HORIBA STEC, Ltd.負(fù)責(zé)控制反應(yīng)氣體流量的功能部分的設(shè)計(jì)。高速。堀場(chǎng)制作所是汽車(chē)尾氣分析儀、薄膜測(cè)量、理化分析領(lǐng)域的頂尖公司，而這些分析技術(shù)的基本原理是光學(xué)測(cè)量技術(shù)，因此等離子體發(fā)光測(cè)量是由日本堀場(chǎng)制作所進(jìn)行的。該領(lǐng)域的頂尖公司。另一方面，反應(yīng)氣體流量的控制部分由全球半導(dǎo)體制造設(shè)備中 的質(zhì)量流量控制器（氣體流量控制裝置）的制造商負(fù)責(zé)。等離子發(fā)射控制器 RU-1000 匯集了堀場(chǎng)集團(tuán)的最佳技術(shù)，并將繼續(xù)挑戰(zhàn)技術(shù)的發(fā)展，達(dá)到更高的高度。
對(duì)于要求演示的客戶
在本公司，我們出租控制器和等離子測(cè)量裝置等系統(tǒng)，以便與客戶的系統(tǒng)相匹配，讓客戶放心使用。
對(duì)于給您帶來(lái)的不便，我們深表歉意，但請(qǐng)單擊下面的圖標(biāo)并輸入所需的信息。
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