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| 應用領域 | 綜合 |
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特點：
蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM360
它是中心實驗室的得力助手，在科研和工業領域中具有高通用性。
靈活的樣品適用性
場發射掃描電鏡GeminiSEM360是中心實驗室的理想選擇，在科研和工業中具有非常高的通用性。
產品搭載Gemini1鏡筒，在低電壓下依然具有高分辨成像能力，讓您輕松獲取樣品極表面高分辨信息。
通過鏡筒內二次電子和背散射電子同時成像，即使對于電子束敏感樣品也可以獲取高分辨的表面形貌和成分襯度。
在低真空下（NanoVP）拍攝不導電樣品時，依然可以通過鏡筒內Inlens探頭獲得優異襯度：無荷電高分辨。
出色的用戶體驗
場發射掃描電鏡GeminiSEM360可提供出色的用戶體驗：該產品具有廣闊的視野范圍和大體積腔室，可以輕松檢測大尺寸樣品。
利用蔡司ZENConnect軟件可在多種顯微鏡（例如光鏡、電鏡、X射線顯微鏡）之間進行無縫導航。
使用蔡司的自動對焦和智能探測器等自動功能輕松采集清晰、銳利的圖像。
具有對稱的EDS端口和共面的EDS/EBSD幾何設計，可高效執行成像和分析工作流程。
可有效延長系統正常運行時間，并讓您從容地進行計劃內維護。
優異的功能擴展性
可升級的系統可有效減少重復投資。因此，我們將場發射掃描電鏡GeminiSEM360融入蔡司ZENcore軟件生態系統中。
ZEN軟件生態系統包括：ZENConnect可關聯多儀器、多尺度數據；ZENIntellesis是基于AI的自動分析工具；ZEN數據存儲功能可以讓您在一個數據中心節點上管理不同儀器的實驗數據。
可訪問作為APEER社區成員的其他用戶創建的工作流和腳本，幫助您解決難題。
.明確的升級路徑幫助您的設備更好地升級最新的功能。
蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM460
具有更強大的分析能力，可進行高效分析和自動化的工作流程。
利用高分辨率和大束流
場發射掃描電鏡GeminiSEM460專為有挑戰性的分析任務而設計，可進行高效分析和自動的工作流程。
Gemini2鏡筒可快速執行高分辨成像和大束流分析：從小束流-低電壓無縫切換到大束流-高電壓。
并行使用多個探測器，提供樣品的數據。
多接口腔室設計可兼容更多探測器，以進行高效分析。
使用新的VP模式在大束流下采集EBSD譜圖可達4000點/秒的標定率。
對于化學成分和晶體取向的分析，具有兩個對稱的EDS端口和共面的EDS/EBSD幾何學設計，可實現更快速度且無陰影的面分析結果。
定制化的自動化工作流程
強大的分析功能與自動化流程相結合，讓您的分析工作更進一步。并且蔡司還可以通過Python腳本來定制您自己的自動化實驗。
修改實驗過程并根據您的要求定制結果輸出。
STEM三維成像功能：將自動傾斜和旋轉與蔡司的特征點跟蹤相結合。將所有自動對齊的圖像發送到專有的3D重構軟件后，生成具有納米級分辨率的3D形貌。
當您需要測試材料的加工特性時，蔡司將為您提供自動化的原位加熱和拉伸實驗平臺：它可以讓您自動觀察在加熱和拉伸條件下的材料，同時動態繪制應力-應變曲線。
為您帶來更多可能性
基于Gemini2鏡筒設計，即使在低電壓時，也可以通過調高束流密度來提高分析能力。
能夠使系統與各種配件相兼容。多功能型腔室不僅可以配置分析附件，還可以配置原位臺、冷凍傳輸系統和納米探針。
.因此，您可以隨時對儀器進行配置更改和升級。
所有GeminiSEM均已融入蔡司ZENcore生態系統，您可以利用ZENConnect、ZENIntellesis和ZEN分析模塊，以獲取報告和GxP工作流程。
蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM560
表征體驗，讓您輕松對困難樣品進行1kV以下的高分辨、無畸變成像。
表面成像的新標準
場發射掃描電鏡GeminiSEM560全面提升你的電鏡體驗，即使在1kV以下也可以很輕松地對電子束敏感的樣品進行無畸變高分辨的成像。
Gemini3鏡筒搭載Nano-twin物鏡和新型電子光學引擎SmartAutopilot，可在1kV以下對樣品進行1nm以下分辨率的無漏磁成像-無需樣品臺偏壓或單色器。
通過新的可變氣壓模式和檢測系統對不導電及氣壓敏感的樣品進行成像：將真空敏感樣本通過低真空樣品交換室進入電鏡腔室，可以維持樣品最本征的結構后快速成像。
利用帶雙EDS接口的新型大型腔室，輕松分析復雜樣品。通過優化的探測器幾何設計確保快速、無陰影的圖像。
融合專業知識
新的電子光學引擎SmartAutopilot可全面提升對高難度樣品的成像體驗。
新系統的大視野功能可讓您輕松進行樣品導航。
SmartAutopilot可讓您節省時間，同時避免進行復雜的的光路對中：該引擎可自動調整光路，讓圖像從一倍放大至五十萬倍時始終保持光路對中聚焦良好的狀態。
SmartAutopilot包含蔡司的自動對焦和自動光路對中功能，可在幾秒內為您提供清晰、銳利的圖像。
Python腳本能夠在自動化工作流程（例如3DSTEM斷層成像）中集成軟件功能。
體驗出色的襯度
樣品拍攝中的最佳成像條件，意味著您結合了最佳的參數組合來獲得的圖像：所以拍圖訣竅就是找到它。
Gemini鏡筒技術及其無漏磁成像技術和全新的Gemini3鏡筒可使您找到這些最佳成像條件，并從樣品中發現新的信息。
場發射掃描電鏡GeminiSEM560可以輕松拍攝磁疇襯度，它在樣品上的磁場小于2mT。
使用帶能量過濾器的Inlens背散射探測器進行能量分辨背散射電子成像，同時通過環形背散射探測器進行角分辨背散射電子成像。
通過ZENConnect對所有數據進行整合，輕松生成報告。
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