晶圓熱分布表征是先進半導體制造工藝開發(fā)的核心環(huán)節(jié),直接影響器件電學性能、產線良率及產品可靠性。
典型工藝需求涵蓋:較高難度下溫域覆蓋-190℃(深冷鍵合工藝)至500℃(ALD薄膜沉積),特殊工藝如SiC外延生長需達1200℃。動態(tài)熱管理要求±0.1℃級溫度穩(wěn)定性,晶圓面內≤±1℃熱均勻性,0.1-50℃/min可編程溫變速率。多模態(tài)兼容需滿足拉曼光譜分析、顯微成像等原位檢測需求。
果果儀器專精于溫控技術,根據客戶需求,為客戶定制了晶圓測試專用的光學冷熱臺。該款產品采用電阻加熱、液氮致冷的方式,滿足客戶高難度的低溫實驗需求,實現-190℃~RT溫度范圍內精準控制。采用進口高品質PT100實時反饋溫度,采用PID控溫,確保可靠、高精度控溫。配合果果儀器的溫控軟件,易于操作,可最多設置上百條溫控程序,模擬復雜溫度環(huán)境。
產品特點及主要參數
1.測試樣品:晶圓
2.現場適配儀器:HORIBA拉曼光譜儀、眾韋光電顯微系統(tǒng)
3.溫度范圍:-190℃ ~150℃
4.升溫速率:0.1℃~30℃/min,降溫速率:0.1℃~20℃/min
5.載樣臺:銀質,尺寸φ101.6mm(4英寸)
6.直徑120mm的超大玻璃視窗,視窗上表面與載樣臺上表面距離僅為13.5mm,能適配更高倍數的物鏡
7.真空腔室,<1Pa
8.搭配20L液氮罐,保證長時間低溫測試需求
9.特點:超大號銀質臺心和非常優(yōu)秀表面溫度均勻性
果果儀器定制光學冷臺的進行了溫度均勻性測試,在液氮溫度時,表面溫度均勻性非常高,獲得客戶的高度認可。
1、室溫下
傳感器與載樣臺表面貼合良好,傳感器最大示數與最小示數差值:0℃,溫度穩(wěn)定性為:±0℃。四個溫度傳感器無性能差異。
2、降溫至液氮溫度
傳感器最大示數與最小示數差值:0.5℃,溫度穩(wěn)定性為:±0.25℃。
3、多條程序段控溫。
本設備除低溫控溫性能優(yōu)異外,在RT~150℃的高溫段表現優(yōu)秀,具有非常強的可拓展性,滿足客戶潛在的高溫測試需求。
設備使用現場
↑光學冷臺適配HORIBA拉曼光譜儀
↑現場測試晶圓樣品