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對半導體制造裝置發熱部分的冷卻，對激光裝置發熱部分的冷卻。對半導體制造裝置發熱部分的冷卻，對激光裝置發熱部分的冷卻。小型經濟型冷水機（實驗室使用）

寬工作溫度范圍，同時具備加熱制冷功能，簡易型加熱制冷循環裝置

廣泛運用于半導體設備高低溫測試，電子設備高溫低溫恒溫測試冷熱源；立的制冷循環風機組；制冷加熱循環風控溫系統

本公司產品采用全密閉式設計，防止循環水污染，延長循環水的使用時間。本公司產品采用全密閉式設計，防止循環水污染，延長循環水的使用時間。低溫冷卻液循環泵-80℃～-...

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環裝置（帶防爆）

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱體機

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。反應釜冷熱體機性能穩定

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環器-60℃～250℃

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫冷卻循環器-45℃～250℃

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱體機

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱冷卻循環機-

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱制冷循環裝置

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環裝置-25℃～200℃

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱恒溫體機-25℃～200℃

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環機-10℃ ～ 200℃

本公司生產的中型單流體低溫冷凍機，制冷溫度范圍從-110℃~-150℃，制冷速度快，安全可靠，用于液體快速制冷，廣泛應用于石化、醫療、制藥、生化、凍干、制藥、等...

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱制冷循環器實驗室用

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。反應釜制冷加熱控溫系統SUNDI系列

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫液體循環器-60℃～200℃高品質*