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反相是應用的HPLC保留方式，但極性很大的化合物常常不能充分保留在低百分比有機相中，甚至不能保留在99%含水流動相中。對于含有相同組分的樣品，正相洗脫順序與RPC中的洗脫順序正好相反。盡管正相LC在傳統上采用非極性有機流動相和硅固定相，但如今，多數正相分離法均采用含水有機流動相和極性較強的鍵合固定相。該HPLC方式目前普遍稱為HILIC，即親水作用色譜法。 如果采用強極性鍵合相(如TSKgel Amide-80)，正相或親水作用色譜法(HILIC;見參考資料)可改善極性化合物的保留行為，其保留機理是使用乙腈與乙酸銨緩沖液的混合流動相。與反相保留行為相反，在HILIC中，通過增加乙腈百分比可更長時間地保留樣品中的極性成分。
反相是應用的HPLC保留方式，但極性很大的化合物常常不能充分保留在低百分比有機相中，甚至不能保留在99%含水流動相中。對于含有相同組分的樣品，正相洗脫順序與RPC中的洗脫順序正好相反。盡管正相LC在傳統上采用非極性有機流動相和硅固定相，但如今，多數正相分離法均采用含水有機流動相和極性較強的鍵合固定相。該HPLC方式目前普遍稱為HILIC，即親水作用色譜法。
如果采用強極性鍵合相(如TSKgel Amide-80)，正相或親水作用色譜法(HILIC;見參考資料)可改善極性化合物的保留行為，其保留機理是使用乙腈與乙酸銨緩沖液的混合流動相。與反相保留行為相反，在HILIC中，通過增加乙腈百分比可更長時間地保留樣品中的極性成分。
| 色譜柱： | TSKgel Amide-80 2µm | TSKgel Amide-80 3µm | TSKgel Amide-80 5µm | TSKgel NH2-100 |
| 粒徑： | 2 µm | 3 µm | 5 µm&10um | 3 µm |
| 孔徑： | 10 nm | 10 nm | 10 nm | 10 nm |
| 官能團： | 氨基甲酰 | 氨基甲酰 | 氨基甲酰 | 烷氨基 |
| pH值范圍： | 2.0 ～ 7.5 | 2.0 ～ 7.5 | 2.0 ～ 7.5 | 2.0 ～ 7.5 |
| 使用溫度： | 50 ºC | 50 ºC | 50 ºC | 50 ºC |
規格型號：
| P/N | Description | Particle size | ID (mm) | Length (cm) |
| 0023454 | TSKgel Amide-80 2µm | 2 µm | 2 | 5 |
| 0023455 | TSKgel Amide-80 2µm | 2 µm | 2 | 10 |
| 0023456 | TSKgel Amide-80 2µm | 2 µm | 2 | 15 |
| 0023457 | TSKgel Amide-80 2µm | 2 µm | 3 | 5 |
| 0023458 | TSKgel Amide-80 2µm | 2 µm | 3 | 10 |
| 0023459 | TSKgel Amide-80 2µm | 2 µm | 3 | 15 |
| 0023460 | TSKgel guardcolumn Amide-80 2µm | 2 µm | 2 | 1 |
| 0021864 | TSKgel Amide-80 3µm | 3 µm | 2 | 5 |
| 0021865 | TSKgel Amide-80 3µm | 3 µm | 2 | 15 |
| 0022850 | TSKgel Amide-80 3µm | 3 µm | 3 | 5 |
| 0022851 | TSKgel Amide-80 3µm | 3 µm | 3 | 10 |
| 0022852 | TSKgel Amide-80 3µm | 3 µm | 3 | 15 |
| 0021862 | Guard Cartridge for 2 and 3mmID columns, 3pk | 3 µm | 2 | 1 |
| 0019308 | Guard Cartridge Holder for P/N 0021862 |
| 2 | 1 |
| 0021866 | TSKgel Amide-80 3µm | 3 µm | 4.6 | 5 |
| 0022849 | TSKgel Amide-80 3µm | 3 µm | 4.6 | 10 |
| 0021867 | TSKgel Amide-80 3µm | 3 µm | 4.6 | 15 |
| 0021863 | Guard Cartridge for 4.6mmID columns, 3pk | 3 µm | 3.2 | 1.5 |
| 0019018 | Guard Cartridge Holder for P/N 0021863 |
| 3.2 | 1.5 |
| 0020009 | TSKgel Amide-80 | 5 µm | 1 | 5 |
| 0020010 | TSKgel Amide-80 | 5 µm | 1 | 10 |
| 0021486 | TSKgel Amide-80 | 5 µm | 1 | 15 |
| 0021487 | TSKgel Amide-80 | 5 µm | 1 | 25 |
| 0019694 | TSKgel Amide-80 | 5 µm | 2 | 5 |
| 0019695 | TSKgel Amide-80 | 5 µm | 2 | 10 |
| 0019696 | TSKgel Amide-80 | 5 µm | 2 | 15 |
| 0019697 | TSKgel Amide-80 | 5 µm | 2 | 25 |
| 0021941 | Guard Cartridge for 2mm ID columns, 3 pk, Replaces P/N 0042140 | 5 µm | 2 | 1 |
| 0019308 | Guard Cartridge holder for P/N 0021941 |
| 2 | 1 |
| 0019532 | TSKgel Amide-80 | 5 µm | 4.6 | 5 |
| 0019533 | TSKgel Amide-80 | 5 µm | 4.6 | 10 |
| 0013071 | TSKgel Amide-80 | 5 µm | 4.6 | 25 |
| 0019021 | Guard Column for 4.6mm ID columns | 5 µm | 4.6 | 1 |
| 0019010 | Guard Column for 4.6mm ID columns, 3 pk | 5 µm | 3.2 | 1.5 |
| 0019018 | Guard Cartridge holder for P/N 0019010 |
| 3.2 | 1.5 |
| 0014459 | TSKgel Amide-80 | 10 µm | 7.8 | 30 |
| 0014460 | TSKgel Amide-80 | 10 µm | 21.5 | 30 |
| 0014461 | Guard column for P/N 0014460 | 10 µm | 21.5 | 7.5 |
| 0021967 | TSKgel NH2-100 | 3 µm | 2 | 5 |
| 0021968 | TSKgel NH2-100 | 3 µm | 2 | 15 |
| 0021971 | Guard Cartridge for 2mmID columns, 3pk | 3 µm | 2 | 1 |
| 0019308 | Guard Cartridge Holder for P/N 21971 |
| 2 | 1 |
| 0021999 | TSKgel NH2-100 DC | 3 µm | 4.6 | 5 |
| 0021969 | TSKgel NH2-100 | 3 µm | 4.6 | 5 |
| 0021970 | TSKgel NH2-100 | 3 µm | 4.6 | 15 |
| 0021972 | Guard Cartridge for 4.6mmID columns, 3pk | 3 µm | 3.2 | 1.5 |
| 0019018 | Guard Cartridge Holder for P/N 21972 |
| 3.2 | 1.5 |
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