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旋涂儀是一種廣泛應用于材料科學、半導體制造、微電子、光學和生物醫學等領域的實驗室設備，用于在基片（如硅片、玻璃片、聚合物片等）表面均勻涂覆液體薄膜（如光刻膠、聚合物溶液、生物材料等）。其核心原理是利用高速旋轉產生的離心力，使液體材料均勻鋪展并形成厚度可控的薄膜。
一、工作原理
滴液：將液體材料（如光刻膠）滴加到靜止或低速旋轉的基片中心。
加速旋轉：基片在電機驅動下高速旋轉，離心力使液體材料從中心向外鋪展。
薄膜形成：隨著旋轉速度穩定，液體材料在基片表面形成均勻的薄膜。
溶劑揮發（可選）：對于含溶劑的液體，旋轉過程中溶劑揮發，形成固態或半固態薄膜。
二、性能優化與注意事項
膠液粘度與流量：調整膠液粘度和滴加量，優化薄膜厚度和均勻性。
基片清潔度：旋涂前徹底清潔基片，防止顆粒污染。
旋轉速度與時間：根據膠液特性和基片尺寸，精確設置旋轉參數。
環境控制：保持恒溫恒濕環境，減少溫度和濕度對薄膜質量的影響。
設備維護：定期清潔旋轉軸和真空系統，確保設備長期穩定運行。
旋涂儀作為薄膜制備的核心設備，其性能直接影響微納結構的質量和功能。隨著半導體、微電子和生物醫學等領域的快速發展，旋涂技術將繼續向高精度、高效率和智能化方向演進。
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