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　　隨著結構的微小化，已有多種3D打印方案，但都存在諸多限制，未能有效解決打印尺寸與微結構精度之間的矛盾，3D結構打印的保真度與可靠性不佳，在諸多打印方案中，市場上有兩種微結構3D打印技術：

　　1、利用超快激光和材料非線性的“雙光子3D打印“，分辨率高，理論可達0.1微米。串行寫入模式，效率極低、對環境穩定要求*；耗時長，打印可靠性低；打印尺寸<300微米；受制于打印材料的非線性特性和處理工藝限制，3D結構打印一致性很難保證。

　　2、光固化3D打印（SLA），采用光固化膠槽的供膠、利用DLP投影光學系統，逐層打印，形成3D結構。通常采用的光學系統投影比例1：1，SLA打印面積>7毫米X5毫米（單幀），分辨率>7微米，打印特征尺寸>50微米。提高分辨率，意味著打印面積變小。由于分層打印過程中的累積曝光效應，深微結構易展寬，產生較大結構失真。為降低累積曝光對3D結構展寬的影響，SLA打印要求光固化膠對光有強吸收，導致材料成本升高，3D打印的保真度與打印膠的特性嚴重依賴。

　　納糯三維科技3D打印設備優勢：

　　作為德國全進口的3D打印設備，Nanoscribe雙光子三維微納米激光直寫系統PhotonicProfessionalGT2系統在保持并優化了基于雙光子聚合技術的超高精度3D打印的同時，也從系統本身以及用戶界面等各個方面進行了面向客戶需求的重新設計。德國Nanoscribe公司的Nanoscribe微納米激光直寫系統PhotonicProfessionalGT2（PPGT2）是目前*的打印精度zui高的3D打印機。跟傳統的以激光立體光刻為代表的高精3D打印機相比，利用雙光子微光刻原理的PhotonicProfessionalGT能夠輕松打印出精細結構分辨率高出100倍的三維微納器件。