目錄:上海胤煌科技有限公司>>納米粒度儀及電位分析儀>>APS-100高濃度納米粒度儀>> APS100美國MAS納米粒度儀
| 測量范圍 | 5nm-100μ 微米 | 測量時間 | 1-10min秒 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 分辨率 | 大于0.1nm 微米 |
| 分散方式 | 濕法分散 | 價格區(qū)間 | 100萬-150萬 |
| 儀器種類 | 動態(tài)光散射 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥 |
| 重現(xiàn)性 | <1% |
美國MAS納米粒度儀
原理簡介：
APS 從聲衰減光譜測量產(chǎn)生PSD數(shù)據(jù)，不需要稀釋樣品。APS還測量粒度范圍的10納米到100微米的樣品的聲音速度譜、pH、電導率和溫度。
當聲音穿越泥漿或膠體時，是衰減的。衰減的程度與粒度分布有關。APS可在1 - 100 MHz的頻率范圍內(nèi)非常準確地測量聲音衰減。因為聲音穿過所有的物質(zhì)媒介，APS聲音衰減的測量可以在高濃度和/或不透明的樣品中進行。粒子沉降并不是一個問題，因為在測量時樣品可以被攪拌或泵送。APS分析不受樣品的Zeta電勢水平的約束。APS很容易分析零粒子和高電荷。
APS取樣分析是快速和容易的，無需稀釋樣品。稀釋樣品費時，容易出錯，并可能改變樣品的實際PSD。簡單地倒，或者連續(xù)泵送樣品進入到APS的樣品室，APS的直觀的軟件在幾分鐘內(nèi)做玩余下的工作。
計算詳細PSD數(shù)據(jù)的技術，不需要假設PSD形狀。其他類型的儀器，例如光散射，意味著軟件或操作者假設或猜測PSD是單峰、雙峰、對數(shù)正態(tài)或高斯分布的。這種假設可能導致數(shù)據(jù)不可靠。
專門的APS硬件設計簡化了操作，同時減少維護。這個設計適合研發(fā)以及重復質(zhì)量控制測量。APS也適合過程在線操作。
美國MAS納米粒度儀
主要用途：
1)半導體化學機械拋光(CMP)料漿；
2)陶瓷；
3)油墨；
4)乳劑穩(wěn)定性；
5)藥品；
6)生物膠體；
7)熒光粉；
8)有機和無機顏料如Ti02和炭黑；
9)催化劑；
10)礦物；
11)聚合物乳液；
12)水和非水分散體系；
技術參數(shù)：
1)完整的粒度分布,而不是簡單的平均值和標準偏差大小的數(shù)據(jù)；
2)不需要稀釋樣品；
3)不需要假設PSD形狀；
4)粒度范圍：0.005-100微米；
5)無電解質(zhì)干涉；
6)可測量水的/非水的/不透明的/粘性的樣品；
7)可測量縱向粘度，%固體，PH值，電導率，溫度，聲衰減和聲速度譜；
8)具有自動滴定選項；
9)專門技術：1-100MHz聲衰減譜；
10)溶劑：水/非水；
11)樣品固體%：0.1-60%體積比；
12)樣品體積：標準是120ml，50ml小體積可用；
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