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測 試 原 理
通過軟件程序控制,讓x射線發生路產生適合的x射線去激發測試薄膜材料中的si 或者其他元素,被x 射線激發后變為不穩定態,高能層的電子會躍遷到空穴井同時釋放特定能量被探測器接收,因每個元素都有自已特定的能量特征線,通過探測器的識別,計算機軟件的計算,即可準確識別該元素,并計算出含量。·僅器采用了大面積的品體硅漂移探測器,分辨率能夠達到 125eV,能分辨 AK鋁)元素和si(硅)元素。
技 術 特 點
測試采用x射線熒光光譜原理,測試過程無需耗材
·光管垂直照射,硅元素性能得到更強激發
測試下限好,可準確測量 0.01ghn' 的涂硅量
·采用大面積硅漂移探測器,測試結果極其準確
配置高清液品顯示器,測試過程和測試結果一目了然
設備集成多個 u 接口,數據和通訊傳輸滿足多種要求
空氣光路內部環境得到顯著優化,大氣環境一樣可以直接測試
一鍵測試/操作簡單智能,測試過程使用時間更短,結果更準確
快速采用新的模型算法,大大提高了輕元素的測量穩定性