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賽默飛Thermo Orbitrap Elite 氮氣發(fā)生器

2010年Flairmo*實驗室空壓機問世，基于在氣體制造及純化技術上建立起來的強大技術團隊和專業(yè)知識背景，F(xiàn)lairmo 不斷開展對空氣分離技術的開發(fā)及創(chuàng)造性研究工作，現(xiàn)已成功發(fā)展成為現(xiàn)今世界上重要的氣體發(fā)生器制造商之一。公司總部設在丹麥奧爾堡。10多年來Flairmo一直從事壓縮機和氮氣發(fā)生器的制造，產(chǎn)品滿足各類實驗室、科學儀器對高純氫氣、高純氮氣、零級空氣、大流量氮氣等氣體的需求，涉及醫(yī)療，實驗室，食品，工業(yè)等各個行業(yè)。

型號：N2G 40 – A200.6

氮氣純度99.5%，流量40L/min，內(nèi)置空壓機，壁掛式/柜式箱體，整套系統(tǒng)占地面積不超過0.4平方米，質(zhì)譜配套氮氣發(fā)生器。適配Agilent安捷倫，Thermo Fisher賽默飛，AB SCIEX，沃特世Waters ，布魯克 Bruker，島津Shimadzu，PerkinElmer珀金埃爾默等品牌液質(zhì)聯(lián)用儀LC-MS。

提供3年10000小時質(zhì)保服務。

所用技術 PSA

流速        40 SLPM

出口壓力 0   到 7 barg / 0 到   100 psig

空壓機     內(nèi)置

操作環(huán)境溫度          5°C   到40°C

工作環(huán)境濕度          相對濕度≤   70% , 不冷凝

高海拔     2000 米

尺寸        （長x寬x高 ）： 615 x 630 x 860 mm

重量：110 kg

賽默飛Thermo Orbitrap Elite 氮氣發(fā)生器

丹麥Flairmo*氮氣發(fā)生器專門為LCMS設計，采用先進的PSA技術，將空氣壓縮機里的氣體導入碳分子篩，氧氣、二氧化碳、水份及其他雜質(zhì)在通過碳分子篩時被除去，只允許氮氣通過碳分子篩并進入蓄氣池，在蓄氣池里進行壓力和流速的調(diào)節(jié)后就可以與用氣設備相連。

Flairmo N2G40-A200.6系列氮氣發(fā)生器高配機型內(nèi)置氧濃度分析儀，可以實現(xiàn)純度在線顯示，報警等功能，并且可以用手機APP或者電腦程序?qū)嵤┻h程監(jiān)測，機器的內(nèi)部控制結(jié)合氧濃度分析儀實現(xiàn)純度的真正可選可控，只會產(chǎn)出我們設定好需要的氮氣。

Flairmo N2G40-A200.6系列氮氣發(fā)生器配備了LCD 觸摸顯示屏可以方便查看機器狀態(tài)和記錄，如開機次數(shù)，運行時間，純度設置，純度報警，維修服務提醒等等。

與采用中空纖維膜技術對比

1、碳分子篩技術可實現(xiàn)自我凈化，不僅有效去除雜質(zhì)和碳氫化合物，而且得到的氮氣純度更高，這就是為什么所有廠家氣相用氮氣發(fā)生器（因為純度要求達到99.999%）全部采用碳分子篩技術而不是膜分離技術。

2、膜分離技術，根據(jù)不同氣體在通過膜時的滲透屬性不同，將空氣中的氮氣分離出來，但通過膜的壓縮空氣即使之前經(jīng)過凈化也會存在一定的雜質(zhì)和碳氫化合物，這些雜質(zhì)會附著在膜上而不會*排除，在空氣濕度大的地方，膜的分離效率會不斷降低，純度和流速會逐漸降低.

3、碳分子篩技術更適宜于潮濕的空氣環(huán)境和高溫天氣；

Thermo LTQ Orbitrap Elite 組合式質(zhì)譜
新一代Thermo Scientific Velos Pro離子阱與高場Orbitrap技術相結(jié)合，Thermo Scientific Orbitrap Elite組合式質(zhì)譜為各項研究應用提供zui*的多功能性和性能。

Thermo Scientific Orbitrap Elite組合式質(zhì)譜具有業(yè)界的超凡性能，將下一代高場Orbitrap分析器和Thermo Scientific Velos Pro雙壓線性離子阱結(jié)合。
高場Orbitrap分析器提高樣品分析的速度、靈敏度和動態(tài)范圍， 幫助您進行更深入的研究。

超高分辨率可確定完整蛋白質(zhì)的分子量，進行深入的同位素分析，從而提供極其可靠的分析結(jié)果。
第二代離子光學技術，具有中性阻擋技術和Velos Pro* 檢測系統(tǒng)，提高分析系統(tǒng)的耐用性和定量功能。
新型高場Orbitrap分析器
分辨率> 240,000 FWHM
*的信號處理
多種裂解技術：如碰撞誘導解離（CID）、更高能量碰撞誘導解離（HCD）以及可選的電子轉(zhuǎn)移解離（ETD）
平行的質(zhì)譜和多級質(zhì)譜分析
Velos Pro離子阱第二代離子光學具有中性阻擋技術，提供耐用性