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三聯光催化裝置的技術特點介紹
1、創新性的采用多面反射式設計，將傳統光化學反應單面照射改進為前部、后部、下部三面照射，使得反應管內的溶液能夠更均勻的接受光照。
2、內置半導體制冷恒溫系統，能夠保證反應室內溫度在三臺Kessil燈滿功率照射時，溫度不高于25℃，減少了光源的熱效應對反應的影響，確保實驗數據的準確可靠。
3、內置磁力攪拌系統，攪拌轉速0-1000rpm連續可調。
4、可按需定制適配多種反應試管、Schlenk管、反應瓶的支架，可輕松實現多聯高通量實驗。
5、這個催化裝置是專為Kessil光源設計的，能夠解決傳統直接照射式的光催化反應熱效應大、照射不均的問題。
光催化系統就是光觸媒在外界光的作用下發生催化作用，光觸媒在光照條件下（可以是不同波長的光照）所起到的催化作用的化學反應。當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。