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安捷倫7500系列ICP-MS 的高基體樣品引入 附件的性能特點
閱讀：333 發布時間：2019-4-13| 提 供 商 | 上海斯邁歐分析儀器有限公司 | 資料大小 | 450.5KB |
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高基體樣品中多種痕量元素的測定一直是一個困難的 分析挑戰。ICP 光學發射光譜（OES）具有優良的基 體承受能力和多元素同時分析能力，但靈敏度不足， 而且易受到復雜的光譜干擾。ICP-MS 具有難以逾越 的靈敏度和較少的干擾，但對可溶固體含量必須限制 到大約 0.1% 或更低。
我們將 安捷倫ICP-MS（以及 ICP-OES）的穩定性和其它性 能對于高溶解固體的耐受能力定義為“耐用性”。在 ICP-MS 中，這種耐用性是通過測量調諧的 CeO+/Ce+ 比值來評價的，CeO+ /Ce+ 比值越低意味著該等離子體 越耐用。
安捷倫先研發了許多新技術以改善其耐用性，包括 一種優化的低流速樣品引入系統，該系統的炬管內 徑較寬（2.5 mm），采用數字驅動的 27 MHz 射頻發生器。這些創新技術使 Agilent 7500 八極桿反應池系 統（ORS）比其他任何 ICP-MS 都具有更好的高基體 樣品分析性能，CeO+/Ce+ 比值大約 1%，而其他儀器 一般是 2%-3%。不過，即使擁有這些創新技術，但為 了獲得穩定性，仍需限制總溶解固體（TDS）。 一般來講，這意味著樣品的稀釋會隨之帶來一些缺點， 包括檢出限變差，樣品污染的可能性增加，制備時間 增加以及廢液體積增加等。