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VibroMet™ 2 振動(dòng)拋光機(jī)-領(lǐng)拓儀器可快速去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層，從而得到無(wú)應(yīng)力的制備表面，而不必使用電解拋光制備所必需的危險(xiǎn)電解液。結(jié)合二氧化硅拋光液對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光，可適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）。用戶(hù)設(shè)定好程序后就可以離開(kāi)，樣品會(huì)在拋光盤(pán)中自動(dòng)地開(kāi)始振動(dòng)拋光。

VibroMet™ 2 振動(dòng)拋光機(jī)可快速去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層，從而得到無(wú)應(yīng)力的制備表面，而不必使用電解拋光制備所必需的危險(xiǎn)電解液。結(jié)合二氧化硅拋光液對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光，可適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）。用戶(hù)設(shè)定好程序后就可以離開(kāi)，樣品會(huì)在拋光盤(pán)中自動(dòng)地開(kāi)始振動(dòng)拋光。

設(shè)定后無(wú)需過(guò)多留心

·樣品在拋光盤(pán)中可自動(dòng)開(kāi)始振動(dòng)拋光
·12in [305 mm]直徑拋光盤(pán)可同時(shí)制備多達(dá)18個(gè)樣品

無(wú)需使用危險(xiǎn)電解液

·替換電解拋光儀和危險(xiǎn)電解液
·結(jié)合VibroMet 2 與MasterMet二氧化硅拋光液，MicroCloth 拋光布對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光

快速去除樣品表面變形層

·水平運(yùn)動(dòng)溫和地拋光樣品不引起機(jī)械應(yīng)力
·所得樣品表面適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）
·對(duì)混合材料和不均勻樣品都能達(dá)到理想的制備效果

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