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Turbo-V 2300 TwisTorr 泵擁有同類產品中較快的 N2 抽速。該泵采用*的 Twistorr 技術，是當今市場上小分子氣體壓縮比高的渦輪分子泵。該泵專為科研應用設計，并且采用全顯示機架控制器進行操作。由于能耐受很高的前級壓力，該泵可采用安捷倫 TS600 等經濟實惠的小型干式渦旋泵作為前級泵。

Turbo-V 2300 TwisTorr渦輪分子泵特性：

1.Turbo-V2300解決方案包括獨立式泵和機架式顯示控制單元

2.*進的轉子設計與TwisTorr技術相結合，可減少泵的級數

3.*的整體型轉子可減少材料應力并改善組裝件容差

4.電機可縮短啟動時間并在氣體負荷變化情況下提高泵的穩定性

5.熱耗散更低，真空性能更高

6.*進的水冷系統

7.優化的風冷系統

8.潔凈的免維護真空

9.采用了安捷倫A-PLUS軟件（原T-plus）

渦輪分子泵應用范例

安捷倫渦輪分子泵包括集成泵組和多流路泵，其設計旨在實際應用中達到較佳性能。泵的緊湊型設計滿足工業中的嚴苛空間要求。渦旋分子泵幾乎不需要維護，并可避免錯誤使用。無論您是終端用戶還是原始設備制造商，安捷倫均可針對您的應用為您提供幫助和支持，或定制適合您的需求的系統。

Turbo-V 2300 TwisTorr渦輪分子泵典型渦輪泵應用：

領域	詳細說明	應用
質譜和分析儀器	針對質譜系統優化的全系列泵和控制器具有多入口泵組的定制泵低成本、易于使用、高分析性能對于 GC/MS，提供用于相對低氣體載荷環境的 1 個真空室和用于分析無機樣品的中等真空接口對于 LC/MS，需要提供多室、高通量真空系統對于 ICP-MS，提供多種真空系統，包括用于氬氣等重載氣的泵和使用氦氣的碰撞池對于 TOF 系統，需要較小尺寸、高通量和高效的散熱設備	質譜 GC/MS LC/MS ICP-MS TOF
科研中的真空應用	非常清潔、可靠和高性價比的 HV 和 UHV 粗真空軸承未暴露于 UHV，降低了污染高速和高壓縮可以以任意角度安裝聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體	高能物理融合技術一般 UHV 研究同步光源粒子加速器
工業真空加工	為薄膜沉積應用而專門設計的集成分子泵解決方案適用于原始設備制造商和終端用戶的專業性能適用于具有預真空鎖或大型內聯連續系統的單室批量系統和多室系統的泵	薄膜沉積：玻璃涂層設備（建筑和汽車玻璃，平板顯示器）薄膜太陽能電池生產（光電）光學數據介質（CD、DVD、磁光光盤）磁性存儲介質表面處理光學涂層（眼科、精密光電）膜或箔上的輥式/卷繞涂覆設備加工：生產電視機和顯示器顯像管疏散燈（高速公路照明、投影機） X 射線管和電子設備一般工藝：真空爐/冶金
納米技術儀器	分析從有機化合物到半導體晶片等各類物質全系列的高真空和超高真空泵特別適用于要求嚴苛的 SEM、TEM 和表面分析系統低振動渦旋泵適用于敏感的顯微分析可快速、無油式排空大型樣品室內的氣體集成的泵控制器可靈活進行控制，幾乎不生成電磁噪音非常適合為半導體生產創造合適環境高轉速確保能夠以高泵速抽空半導體生產中釋放的輕質氣體（He、H）符合高速循環應用的嚴格要求，例如真空裝載鎖通過對多個渦旋泵聯用一個前級泵，可提高工具的可靠性聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體安裝于支架上的控制器或一體式控制器允許將電子設備放置于遠處	電子顯微鏡（SEM、TEM）聚焦離子束系統 (FIB) 表面分析半導體制

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