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| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 環保 |
|---|---|---|---|
| 范圍 | 0.3?～3?m/s |
通過等離子體方法，對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設備為單室真空系統，主要由真空系統、氣路系統、電氣系統、射頻電源系統
產品簡介
詳細介紹
離子去膠機 型號：PR-3
離子去膠機
通過等離子體方法，對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設備為單室真空系統，主要由真空系統、氣路系統、電氣系統、射頻電源系統、控制系統、冷卻系統、報警系統等部分組成。
射頻電源采用RF500W電源控制。
氣路系統采用兩臺浮子流量計控制氣體進氣。
腔室結構：臥式、純石英
真空室規格：F210′300mm
限真空：1Pa（環境濕度≤55%）
真空系統:機械泵
大裝片直徑: F4英寸
大裝片容量：4英寸 25片/爐
去膠速率: ～500A/min
去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋范圍內)
操作方式:手動方式
用戶可選配全自動控制方式
通過等離子體方法，對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設備為單室真空系統，主要由真空系統、氣路系統、電氣系統、射頻電源系統、控制系統、冷卻系統、報警系統等部分組成。
射頻電源采用RF500W電源控制。
氣路系統采用兩臺浮子流量計控制氣體進氣。
腔室結構：臥式、純石英
真空室規格：F210′300mm
限真空：1Pa（環境濕度≤55%）
真空系統:機械泵
大裝片直徑: F4英寸
大裝片容量：4英寸 25片/爐
去膠速率: ～500A/min
去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋范圍內)
操作方式:手動方式
用戶可選配全自動控制方式
