離子濺射儀

產品介紹：

TT-29-LZ-Ⅱ離子濺射儀是一種小型鍍膜裝置，可用作掃描電鏡、電子探針等儀器進行試樣制備，是開展教學科研實驗的*儀器。

鍍膜原理與結構：

TT-29-LZ-Ⅱ鍍膜基本原理是基于荷能正離子轟擊靶電極產生濺射現象，靶被濺射出來的中性原子沉淀于基臺上樣品表面成膜，形成導電層。

該為二極結構，以基臺和樣品架為正電極與儀器外殼相連并接地，濺射靶電極為負電極（加負高壓），它們被安裝在玻璃罩的真空腔內，當腔內達到一定真空度，在負高壓的作用下發生輝光放電產生等離子體，其中正離子在電場加速下，獲得足夠能量轟擊負電極上的靶面，靶面被濺射原子沉淀于基臺的樣品表面形成導電膜，以供上述儀器分析。

技術參數：

1、型號：TT-29-LZ-Ⅱ

1、真空腔：￠150×12   硼酸硅質玻璃

2、濺射靶尺寸：￠55×0.3

3、基臺：   ￠50  6-8個樣品

4、極間距調節范圍20-40mm

5、濺射電壓：  -2000V-0  DC連續可調

  濺射電流0-30 mA

6、定時器：0-99分數字顯示

7、真空測量：1×105-1.0×10-1pa  數字顯示，單片機控制，數字顯示，具有真空保護鎖設置。

8、控制系統：單片機控制，完成真空自動測量、顯示、定時器倒計時功能以及自動完成鍍膜程序。

9、真空泵：2L/S二級旋片式直聯機械泵，極限真空度6×10-1pa

10、充氣閥：金屬微調針型閥   保護氣體  99.9%純度氬氣（*）

11、外形尺寸：長354mm ×高216mm ×深340mm

12、電源：AC 220V  50HZ

特點：

1、人性化設計，整體性好；

2、單片機控制，操作方便簡潔；

3、用戶可根據實驗需要自由設置濺射操作的工藝參數，使用靈活、方便；

4、儀器有真空鎖保護設置，使儀器可靠性安全性好；