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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
微型非自耗電弧爐DHM-300 真空爐是小型高新材料制備設(shè)備，安全、可靠，操作簡(jiǎn)單，占地面積小， 非接觸式高壓引弧，電弧穩(wěn)定熔煉效果好。
詳細(xì)介紹
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介
微型非自耗電弧爐DHM-300 真空爐主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。
適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設(shè)備采用桌
面式結(jié)構(gòu)，占地空間小。
微型非自耗電弧爐DHM-300 真空爐、產(chǎn)品特點(diǎn)
1、采用高純氬氣保護(hù)，zui高熔煉溫度可達(dá)3500℃
2、真空腔體小，可快速抽真空，快速充氬氣，效率快及氬氣消耗非常少
3、水冷銅電極可移動(dòng)，可同時(shí)熔煉多個(gè)樣品
4、水冷銅坩堝可方便拆卸
5、采用真空計(jì)測(cè)量真空，壓力傳感器和電磁閥保護(hù)爐內(nèi)壓力
6、采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛
7、桌面式設(shè)計(jì)，占地空間小，節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源
三、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)介
由真空室、水冷電極、水冷銅模、氣路系統(tǒng)、坩堝升降系統(tǒng)、機(jī)殼和
熔煉電源組成。
1、真空室：采用304機(jī)加工件和厚壁石英管復(fù)合結(jié)構(gòu)，既滿足高真空要求，又便
于觀察實(shí)驗(yàn)情況。
2、水冷電極：頂部和底部放分別通有正負(fù)電極，頂部為機(jī)械手結(jié)構(gòu)，可方便的
在幾個(gè)樣品之間移動(dòng)，密封采用動(dòng)密封裝置，保證在移動(dòng)過(guò)程中的真空度。
3、水冷銅模：標(biāo)準(zhǔn)銅模中帶有一個(gè)12*φ25；5個(gè)4*φ8樣品鍋，另可根據(jù)客戶要
求定制；
4、氣路系統(tǒng)：由壓力傳感器、電磁閥、壓力罐、手動(dòng)閥門(mén)和管路組成，可方便
的實(shí)現(xiàn)手動(dòng)充放氣，還可實(shí)現(xiàn)超壓排氣，保護(hù)真空室安全。
5、坩堝升降系統(tǒng)：底部水冷銅模可實(shí)現(xiàn)上下升降，帶鎖緊裝置，可非常方便的
進(jìn)出料。
6、機(jī)殼：結(jié)合設(shè)備外觀經(jīng)驗(yàn)，根據(jù)自身設(shè)備特點(diǎn)，設(shè)計(jì)出合理機(jī)殼，外
表噴塑處理；
7、熔煉電源：定制的電弧熔煉電源，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)小巧；