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產品簡介
微型非自耗電弧爐DHM-300 真空爐是小型高新材料制備設備，安全、可靠，操作簡單，占地面積小， 非接觸式高壓引弧，電弧穩定熔煉效果好。
詳細介紹
一、產品簡介
微型非自耗電弧爐DHM-300 真空爐主要用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。
適用于高校及科研院所進行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設備采用桌
面式結構，占地空間小。
微型非自耗電弧爐DHM-300 真空爐、產品特點
1、采用高純氬氣保護，zui高熔煉溫度可達3500℃
2、真空腔體小，可快速抽真空，快速充氬氣，效率快及氬氣消耗非常少
3、水冷銅電極可移動，可同時熔煉多個樣品
4、水冷銅坩堝可方便拆卸
5、采用真空計測量真空，壓力傳感器和電磁閥保護爐內壓力
6、采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛
7、桌面式設計，占地空間小，節約實驗空間和能源
三、結構簡介
由真空室、水冷電極、水冷銅模、氣路系統、坩堝升降系統、機殼和
熔煉電源組成。
1、真空室：采用304機加工件和厚壁石英管復合結構，既滿足高真空要求，又便
于觀察實驗情況。
2、水冷電極：頂部和底部放分別通有正負電極，頂部為機械手結構，可方便的
在幾個樣品之間移動，密封采用動密封裝置，保證在移動過程中的真空度。
3、水冷銅模：標準銅模中帶有一個12*φ25；5個4*φ8樣品鍋，另可根據客戶要
求定制；
4、氣路系統：由壓力傳感器、電磁閥、壓力罐、手動閥門和管路組成，可方便
的實現手動充放氣，還可實現超壓排氣，保護真空室安全。
5、坩堝升降系統：底部水冷銅模可實現上下升降，帶鎖緊裝置，可非常方便的
進出料。
6、機殼：結合設備外觀經驗，根據自身設備特點，設計出合理機殼，外
表噴塑處理；
7、熔煉電源：定制的電弧熔煉電源，操作簡單，結構小巧；