化工儀器網(wǎng)
產(chǎn)品簡介
真空熔煉噴鑄爐用于各種金屬材料在真空或氣氛保護條件下的感應熔煉及快冷甩帶成型；適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備。 A· 實驗型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料 B· 采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣，可用于制備大塊非晶材料
詳細介紹
真空熔煉噴鑄爐產(chǎn)品型號： | MTZGQ-1 |
真空熔煉噴鑄爐產(chǎn)品特點： | ★澆鑄 噴鑄 吸鑄； ★可一次性熔煉10~1000g金屬，并且可配置二次加料裝置 ★根據(jù)模具的尺寸，可以澆鑄直徑1mm~10mm，長100~160mm的金屬或非晶棒； ★可以澆鑄金屬或者非晶板；如鋁合金、鎂合金薄壁鑄件 ★金屬液自下而上地平穩(wěn)進入空氣稀薄真空條件下的型腔，不能產(chǎn)生卷氣現(xiàn)象，氧化可能性也較小，又在真空條件下實現(xiàn)金屬液的凝固。凝固過程中析出的氣體也易上浮外逸 故鑄件中不易形成氣孔。 ★鑄件晶粒細小，不易產(chǎn)生重度偏析鑄件不易形成縮松 可使鑄件獲得致密的組織，使鑄件力學性能提高 |