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漿態床試驗合成反應裝置 光催化反應
以下是 漿態床試驗合成反應裝置 和 光催化反應裝置 的詳細技術參數及系統說明，涵蓋實驗室研究與工業應用場景：
| 模塊 | 技術參數 | 功能說明 |
|---|---|---|
| 反應器 | - 材質：316不銹鋼/哈氏合金（耐腐蝕） - 容積：100 mL~5 L（實驗室級） - 設計壓力：0.1~20 MPa - 攪拌方式：磁力/機械攪拌（0~1500 rpm） | 氣-液-固三相混合，催化劑懸?。?.1~50 μm） |
| 溫控系統 | - 溫度范圍：室溫~500℃（±1℃） - 加熱方式：夾套油浴/電加熱 | PID精確控溫，適用于費托合成、加氫反應等 |
| 進料系統 | - 液體泵：0.1~50 mL/min（高粘度適配） - 氣體MFC：0~5000 mL/min（H?/CO等） - 氣體分布器：燒結金屬（氣泡直徑<1 mm） | 確保氣液均勻分布，提高傳質效率 |
| 產物分離 | - 高壓分離器：氣液兩相分離 - 冷凝器：-20℃~25℃ - 在線過濾器：0.5 μm | 液體產物循環采樣，未反應氣體回收利用 |
| 安全設計 | - 爆破片：設定壓力110%工作壓力 - 氣體檢測：H?/CO實時監測 | 防爆認證（ATEX），適用于高壓易燃環境 |
費托合成：Co基催化劑，220℃、2 MPa，CO轉化率>70%。
生物油加氫脫氧：Ru/C催化劑，300℃、10 MPa，脫氧率>90%。
納米材料合成：金屬顆粒在漿態床中的可控生長（如Pt/C催化劑制備）。
| 模塊 | 技術參數 | 功能說明 |
|---|---|---|
| 光源系統 | - 光源類型：氙燈（模擬太陽光）、UV-LED（365 nm） - 光強：50~500 mW/cm2（可調） - 波長范圍：200~800 nm（濾光片可選） | 支持可見光/紫外光催化，如TiO?、g-C?N?催化劑的活化 |
| 反應器 | - 材質：石英（紫外透射率>90%） - 容積：50 mL~2 L（批式/連續流） - 設計壓力：常壓~1 MPa | 氣密設計，適用于氣相（如CO?還原）或液相（如染料降解）反應 |
| 溫控系統 | - 溫度范圍：5~80℃（水冷循環） | 防止光熱效應干擾，低溫反應需配套制冷機 |
| 氣體處理 | - 進氣控制：CO?/N?流量0~200 mL/min（MFC） - 產物檢測：在線GC（CO/CH?分析） | 用于光催化CO?還原或水分解產氫 |
| 攪拌系統 | - 磁力攪拌：0~1000 rpm - 透光設計：底部透光攪拌子 | 確保催化劑（如粉末TiO?）均勻分散，避免沉降 |
| 數據分析 | - 在線監測：UV-Vis光譜儀（降解率實時分析） - 量子效率計算：光強-反應速率關聯 | 量化催化性能，支持SCI論文數據要求 |
廢水處理：亞甲基藍降解（TiO?催化劑，UV光，30分鐘降解率>95%）。
CO?還原：Cu?O/ZIF-8催化劑，可見光下生成CO（選擇性>80%）。
產氫反應：CdS/g-C?N?復合材料，420 nm光照射，產氫速率5 mmol/g/h。
| 特性 | 漿態床試驗合成裝置 | 光催化反應裝置 |
|---|---|---|
| 反應類型 | 高溫高壓氣-液-固反應 | 光驅動反應（常溫常壓為主） |
| 能量輸入 | 熱能/機械能 | 光能（紫外/可見光） |
| 催化劑形態 | 懸浮顆粒（納米/微米級） | 粉末/薄膜催化劑（需光響應） |
| 工業關聯 | 費托合成、加氫精制 | 環保（水處理）、新能源（光解水） |
| 安全重點 | 高壓防爆、氫氣泄漏防控 | 紫外防護、臭氧排放控制 |
漿態床裝置：
若需高粘度物料（如生物油），選擇錨式攪拌+高扭矩電機。
高壓加氫（>10 MPa）需哈氏合金材質（如C-276）。
光催化裝置：
研究可見光催化時，選擇AM1.5G濾光片模擬太陽光譜。
氣相反應（如CO?還原）需配套氣密石英反應池和在線GC。
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