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H 型光電反應釜能夠實現控溫耐高壓操作，耐壓 10MPa，采用 316L 不銹鋼釜體，內部與溶液可能接觸的部位噴涂 PFA，保證了耐高溫<200℃；溫度控制采用的夾層水浴或油浴控制，熱傳導速度快。YZEPCR-H 型 H 型光電反應釜中間可以添加離子膜，用于雙室反應光電反應，也可以當做兩個獨立的光電反應釜使用，實現了一機多用。標配電極為三支，全部采用 PEEK 材料，電極既可以耐溫，又可以耐壓。
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