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產品簡介
二手蔡司電鏡 SEM+EDX+EBSD SUPRA 40是一款高分辨率場發射掃描電子顯微鏡，擁有第三代GEMINI 鏡筒，可變壓強性能加上多種納米工具的使用，不用花費大量時間，使高分辨率成像和非導體樣本的分析成為可能，超大的樣品室適合各種類型探頭及配件的選擇。該場發射電鏡適用于材料領域、失效分析、過程控制，納米技術等。
詳細介紹
二手蔡司電鏡 SEM+EDX+EBSD掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域，進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。
ZEISS的場發射掃描電鏡全部采用新一代鏡筒(GEMINI)設計，具有優良的高、低加速電壓性能。創新的InLens設計是目前世界上真正的內置鏡筒電子束光路上二次電子探測器，具有優良的靈敏度和較高的接收效率，而且只接收來自樣品表面的二次電子，因此具有業界較高等級的分辨率和圖像質量。二次電子探測器和背散射電子探測器均內置于鏡筒電子束光路上，試樣的工作距離不受背散射探測器的影響，可以非常接近極靴，這樣可以同時獲得較高的二次電子像分辨率和背散射電子像分辨率，且接收的背散射電子的能量可以控制。ZEISS的場發射掃描電鏡創造性的采用電磁、靜電復合式物鏡，雜散磁場小，可對鐵磁體樣品進行高分辨率成像。
二手蔡司電鏡 SEM+EDX+EBSD技術參數
分辨率
1.3nm @ 15KV
2.1nm @ 1 KV
5.0nm @ 0.2KV
2.0nm @ 30KV(VP mode)
放大倍數： 12 - 900,000x
加速電壓： 0.1 - 30 KV
低壓范圍： 2-133Pa 1Pa步進可調
探針電流： 4 pA - 10 nA (4 pA - 20 nA 可選)
樣品室： 330 mm (?) x 270 mm (h)
樣品臺： 5軸驅動
X = 130mm
Y = 130 mm
Z = 50mm
傾斜角T = -3 to 70°
R = 360°連續旋轉
