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產品簡介
脈沖激光沉積系統PLD：脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。
詳細介紹
Neocera Pioneer 系列 脈沖激光沉積系統PLD— 基于經驗的創新設計
Neocera 利用PLD 開展了深入廣泛的研究，建立了獲得超薄薄膜質量的臨界參數，特別適用于沉積復雜氧化物薄膜。
這些思考已經應用于Pioneer 系統的設計之中。
• 很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧壓（>100 Torr）下冷卻可獲得更高的質量。所有Pioneer系統都具備此功能（壓力范圍可從額定初始壓強到大氣壓）。這也有益于納米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系統的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的大均勻性，同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。更大的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點，導致密度均勻性的損失。
• 為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵，消除油的回流對薄膜質量的影響，所有Pioneer系統的標準配置都采用無油泵系統。
• 我們的研究表明靶和基片的距離是獲得超薄薄膜質量的關鍵參數。Pioneer 系統可以控制靶材和基片的距離，以達到更好的沉積條件。
脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的*之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時，工作壓力的動態范圍很寬，達到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有*功能的納米結構和納米顆粒。另外，PLD 是一種“ 數字" 技術，在納米尺度上進行工藝控制（?/pulse）。
• Neocera 在PLD 設備與工藝開發方面具有不可超越的經驗
• Pioneer 系列PLD 系統是研發領域為廣泛使用的商業化系統
• Neocera 不僅為客戶提供基本的PLD 系統，也提供完整的PLD 實驗室交鑰匙方案
脈沖激光沉積系統PLD技術指標：
Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120A | |
大wafer 直徑 | 8" | 6" | 2" |
大靶材數量 | 6 個1" 或3 個2" | 6 個1" 或3 個2" | 6 個1" 或3 個2" |
壓力(Torr) | 5*10-8 | 5*10-9 | 5*10-9 |
真空室直徑 | 24" | 18" | 12" |
基片加熱器 | 360°旋轉 | 360°旋轉 | 360°旋轉 |
高樣品溫度 | 850 ℃ | 850 ℃ | 950 ℃ |
Turbo 泵抽速* （liters/sec） | 700 軟件控制 | 400 軟件控制 | 260 軟件控制 |
計算機控制 | 包括 | 包括 | 包括 |
基片旋轉 | 包括 | 包括 | 選件 |
基片預真空室 | 包括 | 選件 | 選件 |
掃描激光束系統 | 包括 | 選件 | - |
靶預真空室 | 包括 | 選件 | - |
IBAD 離子束輔助沉積 | 選件 | 選件 | 選件 |
CCS 連續組成擴展 | 選件 | 選件 | - |
高壓RHEED | 選件 | 選件 | 選件 |
520 liters/sec 泵 | N/A | 選件 | - |
... ... |
• 作為完整PLD 實驗室解決方案供應商，我們還可提供：248nm 激光器（準分子、固體等），激光氣體柜，激光器和光學器件，以及光學器件等。
• 帶* 的項目均可客戶化。