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等離子清洗機支持手動和自動化操作
等離子清洗機支持手動和自動化操作,小型等離子清洗機體積和專有的等離子體過程控制實現了的短周期時間,使用專有的算法可以在幾秒鐘內實現對腔室的zui大功率.
等離子清洗機支持手動和自動化操作（內置或內置處理程序），特別均勻和緊湊的腔室設計允許可互換的處理配置和等離子體模式，三軸對稱等離子體室確保產品的所有位置均勻處理，而對所有工藝參數的嚴格控制確保了產品與產品之間可重復的結果。
小型等離子清洗機體積和專有的等離子體過程控制實現了的短周期時間，而其纖薄的結構使占地面積需求zui小化。通用架構可處理多種產品形式因素，包括FPC，PCD，載體，條帶，層壓板，及晶片。根據吞吐量和產品形式的要求，系統可以配置為單個和多個條帶或引線框架，晶圓處理和獨立于島嶼生產環境的雜志到雜志的處理。系統自動回收到等離子體就緒狀態，補償真空壓力，溫度和不同批次尺寸的變化。使用專有的算法可以在幾秒鐘內實現對腔室的zui大功率，該算法會持續測量腔室內的向前和反射功率。
等離子清洗機特點和優點：
1、直接，下游和無離子（）等離子體的極限應用靈活性，允許在不暴露于離子和紫外線的情況下進行處理
2、輕松集成各種工藝設備，包括線焊，貼片，分配，模具和標記
3、需要zui小占地面積的薄型結構，所有的服務組件都可以從前面輕松訪問
4、緊湊的三軸對稱室和專有的過程控制，的工藝均勻性
5、行業的吞吐能力，周期短
等離子清洗機型號和配置：
等離子體處理系統：符合先進半導體和電子封裝等離子體清洗和等離子體處理要求的標準配置。
該型號專門用于處理較大的基板，具有大容量的等離子體室，即9.24升，或標準容量的兩倍。
等離子體處理系統：全自動化，高通量等離子體處理系統，用于引線框條，層壓基板和其他帶狀微電子元件。由于食譜是軟件驅動的，系統需要zui少的硬件交互或工具，所以可以輕松地轉換到新的雜志或條形尺寸。實際上消除了操作員對條或雜志的處理。
等離子體處理系統：設計用于船舶，托盤或其他載體上的微電子設備的高通量在線處理;是前置倒裝芯片底部填充（FCUF）工藝的理想選擇。*的船只旁路功能優化了生產效率，多個在線等離子模塊和生產就緒的雙車道船只處理提高了吞吐量。
等離子體處理系統：設計用于引線框條，層壓基板和其他帶狀電子元件的高通量處理。處理每個等離子體循環zui多5個條帶，并且具有較長等離子體室的每個等離子體循環可處理多達10個條帶。操作將零件返回同一個雜志。