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　　等離子去膠的原理主要是利用等離子體在真空中對膠質(zhì)進行刻蝕，達到去除產(chǎn)品表面膠質(zhì)的目的。在等離子去膠過程中，需要將產(chǎn)品放入到等離子發(fā)生器中，并使用高頻交流電源產(chǎn)生電弧放電，使氣體（如氧氣、氮氣）電離并產(chǎn)生等離子體。

　　等離子體具有的能量密度和反應活性，可以快速地破壞材料表面的化學鍵，將其表面附著物分解成小分子或原子，并將其氧化或還原，從而去除表面的附著物。在等離子去膠過程中，等離子體主要通過物理和化學兩種作用對膠質(zhì)進行刻蝕。

　　一方面，物理作用利用高能離子對清洗物件進行轟擊，使表面的膠質(zhì)物質(zhì)受到?jīng)_擊和振動，變得松散并從表面脫落。另一方面，化學作用則是通過活性粒子與表面膠質(zhì)發(fā)生化學反應，使其分解成小分子或原子，并氧化或還原成其他元素，從而去除表面膠質(zhì)。

　　等離子去膠的原理與等離子清洗類似，但等離子去膠主要針對的是去除表面的膠質(zhì)物質(zhì)，而等離子清洗則主要針對的是清洗表面的污垢和雜質(zhì)。相比傳統(tǒng)的濕式清洗方法，等離子去膠具有更高的清潔效率和更少的環(huán)境污染。同時，由于其低溫處理特點，也減少了對清洗物件本身造成的損壞。因此，等離子去膠已成為現(xiàn)代制造業(yè)和精密儀器領域中廣泛應用的一種清洗技術(shù)。