等離子體又叫做電漿，是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產生的正負電子組成的離子化氣體狀物質，它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質存在的第四態。等離子體是一種很好的導電體，利用經過巧妙設計的磁場可以捕捉、移動和加速等離子體。等離子體物理的發展為材料、能源、信息、環境空間，空間物理，地球物理等科學的進一步發展提新的技術和工藝。
半導體等離子去膠機是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。可用于光刻膠灰化/殘膠去除和表面處理，該設備能在不破壞晶片和其他所用材料的外觀特性、熱力學特性和電氣特性的前提下，清洗和去除晶片表面的有害雜質，這對于通用性非常重要，半導體元件的穩定性和集成度。否則會對半導體元器件的性能指標造成嚴重的問題和干擾，嚴重影響產品合格率，阻礙半導體元器件的整體發展。
等離子去膠機主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物質被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。
半導體等離子去膠機頻率|真空度|功率|氧氣流量的調整
將待拆模插入石英舟內平行氣流方向推至真空室兩電極之間，抽真空至1.3Pa，引入適量氧氣，保持反應室壓力在1.3-13Pa，加高頻功率，電極間產生薰衣草輝光放電。通過調節功率、流量等工藝參數，可獲得不同的脫膠率。當去除膠膜時，輝光消失。
1、調整合適的頻率：
頻率越高，氧越容易電離形成等離子體。如果頻率過高，使電子振幅短于其平均自由程，電子與氣體分子碰撞的概率就會降低，導致電離率降低。通常，公共頻率為13.56MHz和2.45GHz。
2、調整合適的真空度：
適當的真空度可以使電子運動的平均自由程更大，因此從電場中獲得的能量更大，有利于電離。此外，當氧氣流量必須準時時，真空度越高，氧氣的相對份額越大，活性顆粒濃度越大。但如果真空度過高，活性粒子的濃度反而會降低。
3、調整適當的功率：
關于一定量的氣體，功率大，等離子體中活性粒子的密度也高，脫膠速度也快；但當功率增加到一定值時，響應消耗的活性離子達到飽和，脫膠速度隨功率的增加不明顯增加。由于功率大，襯底溫度高，需要根據技術要求調整功率。
4、氧氣流量的調整：
氧氣流量大，活性顆粒密度大，脫膠速率加快；但如果通量過大，離子的復合幾率增加，電子運動的平均自由程縮短，電離強度反而降低。如果回轉室的壓力不變，流量增加，則還增加了被抽出的氣體量，也增加了不參與回轉的活性顆粒量，因此流量對脫膠率的影響不是很顯著。
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