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近紅外 (NIR) 線性偏振膜
特別適合 NIR 偏振應用
800 - 2200nm 下的消光比 >400:1
在各種波長范圍內均擁有高效率
采用耐用的聚合物基片
近紅外 (NIR) 線性偏振膜由耐用的聚合物基片組成，特別適合從可見光到近紅外 (400 - 2200nm) 的成像應用。該偏振聚合物薄膜的平均透射率為 39%，在 760 和 2200nm 的入射隨機偏振光下的偏振效率大于 99.6%。多種矩形尺寸可用于容納從光束直徑較小的低功率 NIR 激光器到較大 LED 光束的所有光源。近紅外 (NIR) 線性偏振膜用于工業成像和實驗室應用，即減低輸出近紅外激光器和 LED 的強度，或減少近紅外光電檢測器記錄的圖像中的眩光。偏振軸標記在偏振聚合物膜的保護性擋板上。
注意:
在*次使用前，請移除保護罩。
近紅外 （NIR） 線性偏振膜通用規格
| 消光比: | 407:1 (Average @ 800 - 2200nm) |
| 厚度 (mm): | 0.50 ±0.1 |
| 波長范圍 (nm): | 400 - 2200 |
| 涂層: | Uncoated, Protective Film on Both Sides |
| 構造 : | Polarizing Film |
| 工作溫度 (°C): | 85 to -55 (3 hours) |
| 基底: | Cellulose Triacetate (TAC) |
| Polarization Efficiency (%): | 99.83 @ 400 - 760nm 99.63 @ 761 - 2200nm |
產品信息
| 尺寸 (mm) | 產品編碼 |
| 12.5 x 12.5 | #12-472 |
| 25.0 x 25.0 | #12-473 |
| 50.0 x 50.0 | #12-474 |
| 76.0 x 76.0 | #12-475 |
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