等離子體聚焦技術

從廢水到有機樣品直接進樣分析，PlasmaQuant MS在不斷提升分析性能的前提下將ICP-MS的分析成本降至業內至低。等離子體聚焦技術使PlasmaQuant MS等離子體異乎尋常的強勁穩健，輕松應對各種復雜基體。并獲得了極低水平的氧化物(<2% CeO⁺/Ce⁺)和雙電荷(<2% Ba⁺⁺/Ba⁺)；等離子體射頻功率實現業內最寬范圍內連續可調（300-1600 W），可根據實際應用需求選擇優化等離子條件。等離子體聚焦技術使PlasmaQuant MS在正常操作條件下，等離子氣消耗量小于9L/min。

• 等離子體超乎尋常的強勁穩健

• 低的分析成本

• 接口錐后配備不少于2個獨立工作的提取透鏡

• 離子源：射頻頻率≤27.12 MHz，功率范圍300~1600W，射頻線圈水冷設計

碰撞反應池iCRC

集成式碰撞反應池iCRC—干擾消除系統使用簡單的氣體—氦氣和氫氣，即可高效、簡潔、快速的消除ICP-MS 分析中遇到的質譜干擾。可以根據樣品基體的不同選擇使用兩種氣體以提高分析數據的準確性。BOOST技術可在使用碰撞反應氣的模式下保證待測分析元素的靈敏度和檢出限不受影響。

• 高效去除質譜干擾確保分析結果的準確性

• 不同模式下快速切換，確保分析效率

• 針對復雜基體的樣品具有出色的長期穩定性

高通量快速分析的保證– ReflexION

PlasmaQuant MS的高靈敏度不僅獲得了業內最佳檢出限，并在保證分析結果的精密度和重復性的前提下顯著縮短分析時間。PlasmaQuant MS高靈敏度的獲得主要得益于ReflexION 離子光學系統，實現了對離子束真正意義上的90°反射偏轉和3D聚焦。ReflexION 離子光學系統通過拋物面靜電場對離子束進行90°反射偏轉的同時，不同大小和動能的待分析離子被聚焦在四極桿質量分析器入口。確保在全質量數范圍內待分析離子最高的靈敏度及信號值。光子、中性粒子及顆粒穿過拋物面靜電場后被真空系統移出質譜儀。

• 離子束被反射并在四極桿質量分析器入口處聚焦獲得業內最高分析靈敏度

• 光子、中性粒子及顆粒未進入四級桿，獲得極低的背景噪聲

• 離子束全三維控制，優化簡單

高效靈活的高解析四極桿 – HD Quadrupole

PlasmaQuant MS可準確定量所有已知穩定存在的同位素；真正意義上的高達3 MHz的高解析驅動頻率，使得PlasmaQuant MS 獲得了理想的質譜分辨能力和業內最佳豐度靈敏度（2.3x10^-8 @ m-1 238U）；質譜掃描速度5115 amu/s及50μs的最小駐留時間。為同位素比值分析、激光燒蝕聯用技術及單納米顆粒物分析提供了硬件保證

• 得益于最佳豐度靈敏度，PlasmaQuant MS獲得優秀的同為素比值分析能力

• 超快質譜掃描速度，PlasmaQuant MS獲得直徑小于10nm的納米顆粒物分析能力

• 低于0.5cps的背景噪聲，PlasmaQuant MS獲得業內最佳檢出限

• 四極桿驅動頻率：3.0 MHz

靈活、精確的全數字檢測器– ADD¹¹

全數字脈沖檢測器在脈沖計數模式下即可達到11個數量級(0.1–10¹⁰cps)的動態線性范圍。一次進樣從痕量超痕量一直到主量的多元素分析均可獲得快速準確的定量分析結果，并且全數字脈沖檢測器在業內具有最長使用壽命。

• 11個數量級的動態線性范圍，實現了真正意義上的寬范圍多元素分析

• 無需頻繁的交叉校正，無需繁瑣準備，簡單易用

• 長壽命檢測器：分析NIST 1643e標樣中23種元素，按照每天300個樣品，每個月分析20天計算，壽命應不小于10年

等離子體改性附件– Nitrox

全面提升石油化工品等有機樣品直接進樣分析中Se、As等元素的準確定量分析性能。Nitrox是一款全自動化、MFC控制的等離子體在線加氧加氮裝置。氮氣通常被用來改善等離子體中待分析離子的電離度、抑制多原子干擾離子的產生和基體效應，進而改善ICP-MS分析的整體性能。在線加氧可應用在有機樣品直接進樣分析領域，可顯著縮短樣品前處理的時間。

高TDS樣品的高效率分析–Aerosol dilution

高TDS樣品分析時，Aerosol dilution氣溶膠稀釋功能可避免樣品復雜的稀釋處理，直接分析例如海水等復雜樣品。