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| 多靶磁控濺射鍍膜機型號：YQDH-500JJC | 貨號：ZH5498 |
| 產品簡介 該鍍膜機主于科研實驗，可制備納米和微米的單層及多層工能膜-種硬質膜，光學膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導體膜，介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。 該鍍膜機為前開門式設計，功能強，鍍膜穩定，重復性好，操作簡便。真空室材料均采用優良材SUS304不繡鋼材料制造，規范，，了材料的成膜度。 采用分子泵+直聯機械泵機組，具有抽速快，油，操作方便快捷，易于維護的特點。 1 鍍膜方式：可實現多靶共濺模式 2 磁控靶：圓柱/平面靶； 3 進氣系統：三路流量計； 4 鍍膜室體積：500×500×600mm3 5 限真空度：6.7×10-5Pa; 恢復真空度：從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鐘﹞ 6 真空抽氣系統：機械泵與分子泵組成； 7 真空測量系統：數顯復合真空計； 8 工作電源：真流電源500W；射頻電源500W﹝13.56MHz﹞；加熱控溫電源； 9 工作烘烤溫度：室溫～800℃可控可調﹝PID控溫﹞； 10 選配件：石英晶振測厚儀，冷卻水機組等； 11 供電電源：三相AC380V，50Hz |  |
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