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等離子清洗機器 晶圓活化去膠設備
  • 等離子清洗機器 晶圓活化去膠設備
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貨物所在地:山東煙臺市

地: 招遠市高新開發區招金路518號

更新時間:2025-03-03 17:34:51

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等離子清洗機器 晶圓活化去膠設備使表面由非極性、難粘性轉為有一定極性、易粘性和親水性,等離子活化清洗機有利于粘結、涂覆和印刷。當噴印物經過等離子處理后進行一定的物理化學改性,從而提高表面附著力。

等離子清洗機應用于晶圓級封裝前表面預處理、晶圓級鍵合前表面活化、光刻膠涂覆前表面活化、晶圓表面較小particle去除、表面有機殘留去除等

等離子清洗器,表面處理機活化設備可以增加表面張力,精細清潔,去除靜電,活化表面等功能,去除晶圓鍵合膠光刻膠 晶圓等離子清洗機 硅片等離子表面處理設備

晶圓plasma表面清洗器首先通過光刻對光刻膠進行光刻曝光處理,然后再通過另一種方法進行刻蝕處理,去除需要去除的部分。

等離子清洗機對各種幾何形狀,表面粗糙程度各異的金屬,陶瓷,玻璃,硅片,塑料等物件表面進行超清洗和改性,**地清除樣品表面的有機染物。

等離子清洗機器 晶圓活化去膠設備實現清潔、活化去膠、刻蝕功效


等離子清洗機器 晶圓活化去膠設備采用高密度2.45GHZ微波等離子技術,用于集成電路、半導體生產中晶圓的清潔去膠、硅片去除污染物和氧化物、提高粘接率,微波等離子體清洗、去膠機能夠對微孔、狹縫等細小的空間進行處理,具有高度活性、效率高,且不會對電子裝置產生離子損害。 通過工藝驗證,微波等離子清洗機降低了接觸角度,提高了引線鍵合強度。

等離子清洗機器 晶圓活化去膠設備應用包括預處理、灰化/光致抗蝕劑/聚合物剝離、芯片碰撞、靜電消除、介質蝕刻、有機污染去除、芯片減壓等。使用等離子清洗機不僅能去除光致抗蝕劑和其他有機物質,而且可以活化和增厚芯片表面,提高芯片表面的潤濕性,使芯片表面更有粘合力。

微波等離子清洗機在半導體封裝工藝中的應用:1. 防止包封分層2. 提高焊線質量3. 增加鍵合強度

4. 提高可靠性,尤其是多接口的高級封裝

為何選擇我們的等離子清洗機?

專注研發、制造、生產各種規格等離子清洗機20多年,合作企業涵蓋半導體、電子、光電、紡織、塑膠、汽車、塑膠、生物、醫療、印刷、家電、日用品及環保等眾多行業,服務過300+優質客戶

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