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WF-10R
光學系統	無限遠光學系統
平場復消色差物鏡	10倍/NA0.28/WD34
檢偏裝置	0°~105°轉動式檢偏器
微分干涉	0 ~ 10mm 移動式插板器
調焦系統	同軸調焦機構、微動格值：0.001mm 調焦范圍：60mm
載物臺	矩形雙層活動平臺：260X220mm 載物臺玻璃尺寸：170X150mm 移動范圍：±75X±75mm
照明系統	LED反射式科勒照明, 帶起偏器
	LDE透射照明

WF-10R 微分干涉檢測顯微鏡

無限遠光學系統，長工作距離平場復消色差物鏡，穩定可靠的架臺，精確的調焦機構。廣泛應用于半導體工業、電子工業、材料科研等領域。DIC觀察模式尤其適合液晶顯示屏導電板的檢測。

規格配置：

1.無限遠光學系統：F=200MM

2.光學放大倍數：50X、100X、200X

3.觀察方式：明場、偏光、微分干涉

4.長工作距離：20-45MM

5.調焦范圍：60MM

6.平臺移動范圍：X：±75MM、Y：±75MM

7.照明系統：垂直LED照明、透射LED照明

8.成像裝置：數字相機或模擬攝像頭

觀察方式：

1.明場觀察：亮度可調同軸LED照明，視野清晰明亮，適合集成電路的檢驗、精密制造業的裝配、零件檢測和品質控制。

2.透射觀察：采用亮度可調的透射照明，可觀察透明樣品，尤其適合用戶液晶顯示屏的品質檢測，能清楚的觀察發光屏的三色模塊。

3.偏光觀察：系統內裝置偏光機構。可調的檢偏鏡，便于正交觀察。廣泛應用于金相試樣、巖礦、煤巖、高分子試樣等偏光觀察。

4.DIC觀察--微分干涉觀察：在系統插入DIC棱鏡裝置（渥拉斯頓棱鏡），能突出樣品各組成之間的相對層次關系，使之呈明顯的浮雕狀，對顆粒、裂紋、孔洞以及凸起等能做出正確的判斷。DIC顯微鏡觀察法特別適用于液晶顯示屏導電板的檢測，能夠清楚的觀察到導電板基板上的導電粒子。

	超大平臺顯微檢測顯微鏡無限遠光學系統設計，采用同軸照明，2X、5X、10X、20X、50X長工作距離平場消色差物鏡，覆蓋低倍大視野觀察和高倍分辨率分析研究等應用，廣泛用于液晶面板和半導體等品質檢測。配置高清晰CCD相機采集顯微鏡圖像。體積：L：770，W：1240，H：470 平臺臺面尺寸：650MMX650MM 平臺移動范圍：X：±270MM；Y：±270MM 主機調焦范圍：Z：40MM
	6英寸高精度手動平臺工作臺面：260x220MM 玻璃面：170X150MM 移動范圍:X:±75MM、Y：±75MM
	調焦部件粗調、微調獨立調節，機構運行平穩，穩定可靠，承載能力大。粗調采用齒輪、齒條驅動方式，采用彈簧來平衡上升的動力。微調采用杠桿原理來完成，不同于普通的齒輪傳動微調方式。精度為0.001MM，調焦范圍60MM。
	檢測顯微鏡單筒顯微鏡，物鏡可換。可以裝在多種機架上使用，廣泛用于制造業的現場檢測、記錄、分析研究。特點： 1.無限遠光學系統 2.LED同軸照明 3.根據被檢測的樣品需要可選物鏡2X、5X、10X、20X

微分干涉檢測顯微鏡

	超大平臺顯微檢測顯微鏡無限遠光學系統設計，采用同軸照明，2X、5X、10X、20X、50X長工作距離平場消色差物鏡，覆蓋低倍大視野觀察和高倍分辨率分析研究等應用，廣泛用于液晶面板和半導體等品質檢測。配置高清晰CCD相機采集顯微鏡圖像。體積：L：770，W：1240，H：470 平臺臺面尺寸：650MMX650MM 平臺移動范圍：X：±270MM；Y：±270MM 主機調焦范圍：Z：40MM
	6英寸高精度手動平臺工作臺面：260x220MM 玻璃面：170X150MM 移動范圍:X:±75MM、Y：±75MM
	調焦部件粗調、微調獨立調節，機構運行平穩，穩定可靠，承載能力大。粗調采用齒輪、齒條驅動方式，采用彈簧來平衡上升的動力。微調采用杠桿原理來完成，不同于普通的齒輪傳動微調方式。精度為0.001MM，調焦范圍60MM。
	檢測顯微鏡單筒顯微鏡，物鏡可換。可以裝在多種機架上使用，廣泛用于制造業的現場檢測、記錄、分析研究。特點： 1.無限遠光學系統 2.LED同軸照明 3.根據被檢測的樣品需要可選物鏡2X、5X、10X、20X

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