變頻化學真空系統配有可連續優化的電子真空控制功能，通過精確且持續地調節隔膜泵的馬達轉速來實現真空控制。集成的CVC 3000真空控制器只需按一下按鈕，就可以實現全自動的蒸發控制。這個系統的結構緊湊，重量輕，在實驗室使用非常便捷。泵根據需求調變馬達速度，降低了能量消耗和機械磨損，使得膜片等磨損件的壽命超長。該系統受歡迎的另一個原因是其運行非常安靜。PC 3001是以MD 1C VARIO-SP化學隔膜泵為基礎泵，其2mbar的極限真空非常適合用于高沸點溶劑。出氣口的廢氣冷凝器（EK）效率高，結構緊湊，可實現近100%的溶劑回收效果。
使用方法：
變頻化學真空系統方法是在封閉的真空系統中進行化學制備的方法。化學真空系統是由玻璃管或金屬管路把反應器與機械泵和油擴散泵(或汞擴散泵)串聯而構成。泵和反應器之間連接一個大冷阱，以防止反應器中的反應物進入油擴散泵或油擴散泵中的油蒸氣進入反應器。冷阱由盛有液氮的杜瓦瓶組成，保持77K的低溫。反應器與真空系統的一段相連接，真空系統的另一段由一系列U形冷阱組成，能將不同揮發性的產物分別冷凝分離。
例如在變頻化學真空系統中合成三氯化硼時，可令氣體先通過一個195K的冷阱（盛有干冰和丙酮混合物），凝聚除去四氯化硅，然后通過一個161K的冷阱（盛有干冰和二硫化碳混合物），凝聚得到較純的三氯化硼。未被凝聚的HCl氣體后可在77K的冷阱（盛有液氮）中凝聚下來。本法適用于對空氣中的氧氣和水蒸氣十分敏感而又容易揮發的物質，如硅烷、硼和硅的鹵化物、某些金屬有機化合物等的制備。
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