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低溫恒溫槽的應用領域及使用方法介紹
低溫恒溫槽可適用于生物工程、醫藥、食品、化工、冶金、化學分析、石油等領域，為用戶提供一個受控的、溫度均勻的恒定場源，是研究所、高等院校、工廠實驗室、質檢部門,為用戶工作時提供一個冷熱受控，溫度均勻恒定的液體環境，對試驗樣品或生產的產品在槽內直接進行恒定溫度試驗或測試，可用于直接加熱或制冷，作為輔助加熱或制冷的溫度來源, 如對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的控溫。
應用領域：
恒溫領域：傳感器檢測、恒溫生化反應、恒溫材料老化等。
生化領域：旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器（合成器）等。
材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統、原子沉積系統等。
醫療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波治療機、醫用冷帽、降溫毯等等。
物化領域：激光器、磁場、分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。
使用方法：
當要在水槽內做恒溫測試時，將溫度切換開關撥至內部溫度處即可。
當需要建立第二溫度場使用時，將本機配備的外部溫度傳感器連接至機器后，先將溫度切換開關撥至內部溫度處，將水槽溫度設定至所需溫度，待儀表顯示溫度穩定10~20分鐘后，降溫度切換開關撥至外部溫度處，此時恒溫槽可通過PID溫控儀表控制第二溫場溫度。
注意：切不可直接將溫度設定開關直接撥至外部溫度處，以免因外部溫度升溫較慢導致恒溫槽內溫度過高，引發意外事故。