激光直寫無掩膜光刻機 參考價：面議
激光直寫無掩膜光刻機紫外光直寫曝光 ，無需掩模，大幅節約了掩模加工費用，靈活性高，可直接通過電腦設計光刻圖形，并可根據設計要求隨意調整，可升級開放性系統設計，按...
全自動光刻機 參考價：面議
全自動光刻機公司開發并生產用于半導體、MEMS、LED及納米技術相關的實驗室和工業領域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國*家研發并商業化光罩對準曝光機的企業，始終...
納米壓印系統-光刻機 參考價：面議
納米壓印系統-光刻機介紹了一個臺式、獨立的納米壓印平臺。該平臺提供了一個帶有微型定位夾具的機械平臺，用于安裝納米壓印室、紫外線固化
spin coater勻膠機 參考價：面議
spin coater勻膠機既在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉...
硅穿孔工藝設備-光刻機 參考價：面議
硅穿孔工藝設備-光刻機晶圓和晶圓之間制作垂直導通，實現芯片之間互連的新技術。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大，芯片之間的互連線短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速...
大氣等離子體系統 參考價：面議
大氣等離子體系統機器人工業化設計中使用的*定制單元：10米線便可輕松集成至各種系統中的PS2000高壓單元和PB3等離子體發生器。
手持低溫等離子體源 參考價：面議
手持低溫等離子體源--基于壓電變壓器直接放電，同時在元件的輸出端直接產生冷等離子，等離子通過電離空氣或氣體來形成。
集成式低溫等離子體源 參考價：面議
集成式低溫等離子體源--基于壓電變壓器直接放電，同時在元件的輸出端直接產生冷等離子，等離子通過電離空氣或氣體來形成。
空氣監測系統-氣溶膠設備（德國） 參考價：面議
空氣監測系統-氣溶膠設備（德國）空氣監測系統NO, NO2, O3, CO, SO2, 探頭區域溫度，氣壓，相對濕度，平均噪音，峰值噪音，顆粒計數，PM1， P...
大氣監測無人機-氣溶膠設備（德國） 參考價：面議
大氣監測無人機-氣溶膠設備（德國）Hours是新一代大氣監測無人機，它結合了目前流行的多旋翼無人機特點和大氣監測系統，可以實現對空中，河流上方等無法到達的位置等...
便攜式粒徑譜儀-氣溶膠設備（德國） 參考價：面議
便攜式粒徑譜儀-氣溶膠設備（德國）便攜式粒徑譜儀具有穩定的輸出和更長的使用壽命。所有系統包括一個可插入式過濾器（直徑47或50毫米）的接口。因此進行氣溶膠組成成...
氣溶膠粒徑譜儀2-德國設備 參考價：面議
氣溶膠粒徑譜儀2-德國設備氣溶膠粒徑譜儀21.光散射原理,90度散射角檢測 2.T型孔傳感器技術,消除了邊緣效應和重疊粒子計數 3.分辨率高 4.準確度和穩定性...
鹽霧氣溶膠發生器-德國設備 參考價：面議
鹽霧氣溶膠發生器-德國設備懸浮液、溶液和生物制劑中固體顆粒的生成優勢良好的短期和長期氣溶膠穩定性可調粒徑寬范圍儲液罐易加注大型儲液罐（500 cm3）堅固的設計...
氣溶膠稀釋器-德國設備 參考價：面議
氣溶膠稀釋器-德國設備它能降低顆粒物入口濃度，使顆粒物的入口濃度在儀器操作高敏感、高精度的范圍內。它有兩檔標準的稀釋率，即100:1和10:1，兩臺稀釋器串連使...
掃描電遷移率粒徑譜儀-氣溶膠設備（德國） 參考價：面議
掃描電遷移率粒徑譜儀-氣溶膠設備（德國）納米顆粒粒徑譜儀? 氣溶膠測量粒徑分布， 3 nm to 1.2 μm? 可連續快速操作? 高分辨率： 64通道? 測量...
ISO16890濾料測試系統-氣溶膠設備（德國） 參考價：面議
ISO16890濾料測試系統-氣溶膠設備（德國）ISO16890濾料測試系統不同系統配置可用于測試濾料、小型過濾元件、高效過濾器、一般通風過濾器、壓縮空氣過濾器...
油霧氣溶膠發生器-德國設備 參考價：面議
油霧氣溶膠發生器-德國設備油霧常見于研究和質量檢驗行業中。在特定的質量檢驗和顆粒測量設備的校正中，Palas公司的氣溶膠發生器確保在可靠的參數條件下，結果穩定可...
熱舟蒸發源-真空組件 參考價：面議
熱舟蒸發源-真空組件應用范圍： 薄層沉積； 光學涂覆； 混合層沉積； 金屬電極接觸。
俄歇電子能量譜-真空組件 參考價：面議
俄歇電子能量譜-真空組件俄歇電子能量譜是一種利用高能電子束為激發源的表面分析技術. AES分析區域受激原子發射出具有元素特征的俄歇電子。俄歇電子在固體中運行也同...
等離子體原子/離子源-真空組件 參考價：面議
等離子體原子/離子源-真空組件產生感應耦合等離子體,包括氮氣,氧氣和氫氣等分子氣體。使用1個射頻線圈（頻率13.56MHz）,能量將轉化為等離子體，這會產生僅具...
半球型電子能量分析譜-真空組件 參考價：面議
半球型電子能量分析譜-真空組件大型高透射半球形電子能量分析譜--120mm半徑.¨ 全程180度反轉角度.¨ 邊緣界線區域校正--使用Jos...
電子束蒸發源-真空組件 參考價：面議
電子束蒸發源-真空組件電子束蒸發源對于使用常用熱蒸發技術非常難蒸發的材料,電子束蒸發是一種有效的蒸發手段.通過高能電子束射向靶材來升高靶材溫度.相比于通常輻射或...
磁控濺射靶源-真空組件 參考價：面議
磁控濺射靶源-真空組件我司提供的磁控濺射源是目前一和超高真空系統（1e-11torr）匹配的商業用濺射源。 在不配置彈性墊圈的結構中，可烘烤至250℃。在匹配的...
IG2離子源-超高真空 參考價：面議
IIG2離子源-超高真空典型應用是氬離子濺射清洗表面（中科院物理所配置多套IG2型離子源）濺射清洗 /表面準備，用于表面科學，MBE ，高真空濺射過程離子輔助沉...
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