多功能薄膜制備系統-nanoETCH

    石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度，而目前成熟的傳統半導體刻蝕系統在面對單層材料的高精度刻蝕需求時顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的等離子刻蝕系統功率較大、難以精細控制的問題，Moorfield Nanotechnology與曼徹斯大學諾獎得主Andre Geim課題組聯合研發了臺式超精準二維材料等離子軟刻蝕系統- nanoETCH。與傳統的刻蝕方案相比，nanoETCH在石墨烯和2D材料的關鍵加工中表現出了很高的性能。該系統對輸出功率的分辨率可到達毫瓦量，對二維材料可實現超精準的逐層刻蝕，也可實現對二維材料進行層內缺陷制造，還可對石墨基材等進行表面處理。該系統性能已經在劍橋大學石墨烯中心、曼徹斯大學、英國國家石墨烯中心、西班牙光子科學研究所等諸多用戶實驗室得到驗證。

    該系統可刻蝕3英寸或更大尺寸的樣品，樣品放置在門設計的樣品臺上，低功率毫瓦精細控制的射頻單元提供高精度的刻蝕功率，分子泵高真空系統可確保樣品免受污染。

應用方向舉例：

石墨基材的處理：表面處理，更有于剝離出大面積的石墨烯

微納刻蝕：去除石墨烯，對其他區域無損傷

缺陷加工：在石墨烯層中制造點缺陷

主要點：

◎  軟刻蝕功率：<30W 高精度射頻源

◎  MFC-流量計控制

◎  3英寸、6英寸樣品臺

◎  全自動觸屏操作系統

◎  設定、保存多個刻蝕程序

◎  可連接電腦記錄數據

◎  本底真空<5×10^-7 mbar

◎  易于維護

◎  完備的安全性設計

◎  兼容超凈室

◎  穩定的性能表現

系統選件：

◎  機械泵類型可選

◎  腔體快速充氣

◎  超高精度射頻源控制

◎  高精度氣壓控制

◎  增加過程氣體

用戶單位