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概述

HCPK—200 微庫侖滴定儀基于動態微庫侖滴定原理設計而成。樣品引入高溫裂解管，其中待滴定的成分經氧化由載氣帶入滴定池中，測量電解滴定過程中所消耗的電量，依法拉第定律即可測得樣品的含量。

特點

⑴、    具有技術的樣品裂解滴定系統，zui小檢測量提高了10倍，達到0.05ppm。

⑵、    設計的進樣器，攪拌器，使儀器的穩定性有了進一步提高。

⑶、    整機設計采用模塊化結構，簡捷、緊湊、維護方便。

⑷、    采用Windows中文操作平臺，操作直觀、方便，動態顯示分析過程中實時數據和分析譜圖，具有譜圖保存功能、歷史譜圖查看功能、數據存貯及自動生成打印報表等功能，可聯接LIMS工作站等。

應用

測定各類固體、液體、氣體中的總硫、總氯含量。儀器廣泛應用于石化、石油、化工、環保、冶金、高校等部門的產品分析、科學研究。

技術規格

分析方法：動態微庫侖法

測量范圍：S：0.05～5000ppm   Cl：0.3～5000ppm

zui大電解電壓：±30V

偏壓范圍：0～500mV

所需氣體：氧氣（純度99.7%）  氮氣（純度99.7%）

控溫范圍：室溫～1000℃

標    準：符合SH/T 0254、SH/T 0523、SH/T0222標準