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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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光刻是通過光照射投影的方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形刻在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。利用旋涂技術(shù)，將光刻膠均勻涂布在硅片表面通過掩模曝光后，...
有效的生物學(xué)和生物醫(yī)學(xué)研究要求,對(duì)細(xì)胞微觀環(huán)境和生物材料特性需進(jìn)行特定控制,材料表面的化學(xué)和機(jī)械性能會(huì)顯著影響細(xì)胞的生存，擴(kuò)散和分化.等離子體處理通過引入有益的官能團(tuán)（羧基，羰基，羥烷基和胺）來清潔、...
對(duì)柔性電子學(xué)的研究正在創(chuàng)造令人振奮的發(fā)展，將當(dāng)今的剛性電子學(xué)轉(zhuǎn)變?yōu)槿嵝院晚槕?yīng)性的技術(shù)。這些技術(shù)獎(jiǎng)豐富我們的日常生活，并使世界變得更安全，更智能，更健康。仔細(xì)選擇di一層基材是因?yàn)槠淠軌蛟谥圃旌褪褂眠^程...
RIE/ICP干法蝕刻工藝案例ICP/RIE蝕刻應(yīng)用范圍：-Si，SiO2，SiN蝕刻工藝-Al，Cr，Ti，TiW，Au，Mo等金屬蝕刻工藝-晶圓尺寸：一片，4英寸，6英寸晶圓RIE等離子刻蝕案例：...
