整套系統包括兩臺CPC，兩臺DMA，一臺電暈中和器，濕度控制系統，整套系統軟件。 
產品圖片如下:

流程圖如下：

操作環境 
電源：100-230VAC，50-60Hz，單相； 
環境溫度：15-35℃；
環境氣壓：500-1000mbar壓力；

HTDMA完成如下功能： 
對于實驗室產生的氣溶膠或環境氣溶膠，研究相對濕度對氣溶膠顆粒大小的影響。整套系統包括一套TDMA和一套濕度控制系統。具體功能如下： 
A．低濕度環境下產生多分散氣溶膠； 
B．調節電壓，用*個DMA選取一定電遷移率范圍內的氣溶膠； 
C．將選取的氣溶膠引入準確控制相對濕度的環境； 
D．在電壓步進模式或掃描模式下，用第二個DMA測量氣溶膠顆粒的增長；

HTDMA組成部件描述： 
1） 空氣壓縮機：配合氣溶膠發生器使用，為氣溶膠發生系統提供動力。 
2） 壓縮空氣過濾系統：用作壓縮空氣之后，多分散氣溶膠發生器之前，用于去除壓縮空氣中多余的顆粒物和水分以及油性物質，保證進入氣溶膠發生器的壓縮空氣是干凈，無油，無水分的潔凈空氣，避免對所發生的氣溶膠顆粒造成污染，以及避免對設備造成損壞。壓縮空氣過濾系統中包括除油除水設計。 
3） 多分散氣溶膠發生器：用于發生多分散氣溶膠，不銹鋼結構，耐腐蝕。 
4） Nafion干燥器：對應多分散氣溶膠發生器發生的氣溶膠進行干燥。 
5） 氣溶膠稀釋器：根據實驗要求，控制發生氣溶膠的濃度。 
6） 預切割器：根據*個DMA的不同，選擇切割粒徑為1微米的切割器，除去氣溶膠發生器發生的大氣溶膠顆粒。 
7） 中和器：中和器選用電暈原理中和器，無放射性物質，對身體無害，不需要定期更換。 
8） *個DMA：10納米-1000納米, 邊殼流1.0-10LPM；單分散氣溶膠流量0.1-1LPM；DMA電壓5-9000V。DMA中包括溫度和壓力傳感器。 
9） *個CPC：CPC粒徑范圍5納米-3微米，粒徑濃度0.01-50000個顆粒/ml，CPC樣品流0.3LPM，CPC工作環境是壓力500-1000mbar，溫度15-35攝氏度。 
10） 濕度控制系統： 
相對濕度控制范圍：10-93%； 
流量：1.0-9LPM； 
濕度控制穩定性：80%的濕度時，+/-1.2%； 
小于10%濕度變化響應時間：<=180s； 
10%-80%濕度變化響應時間：<=200s； 
11） 第二個DMA：10納米-1000納米, 邊殼流1.0-9.0LPM； 
DMA電壓5-9000V。DMA中包括溫度和壓力傳感器。 
12） 第二個CPC： 
CPC粒徑范圍5納米-3微米； 
粒徑濃度0.01-50000個顆粒/ml； 
CPC樣品流0.3LPM； 
CPC工作環境是壓力500-1000mbar，溫度15-35攝氏度。

HTDMA控制系統 
電腦編程控制DMA，CPC和濕度控制系統。使用者只需要操作鍵盤和鼠標即可； 
原數據自動存儲； 
數據分析軟件可以對粒徑分布進行分析，并且系統也提供TDMA分析；

HTDMA備品備件 
隨機提供一年的備品備件（正丁醇工作流體除外）。

售后服務 
1） 一年免費質保，儀器終生維修； 
2） 提供軟件終生免費升級； 
3） 免費安裝調試及使用培訓；