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電子束蝕刻機,電子束光刻機是納米級刻蝕機，非常適合納米技術和芯片的制造研發。
電子束蝕刻機,電子束光刻機特點
*化設計和組件，以減少日常服務需求。
實現每年少于5%的機器故障停機時間。
提高性能,促進批量生產。
電子束蝕刻機,電子束光刻機規格參數
射束電壓范圍20kV-100kV
光膠上的特征尺寸<8nm
500um場的縫合/重疊誤差<25nm
自動加載5卡盤氣鎖系統
電子束蝕刻機,電子束光刻機是納米級刻蝕機，非常適合納米技術和芯片的制造研發。
電子束蝕刻機,電子束光刻機特點
*化設計和組件，以減少日常服務需求。
實現每年少于5%的機器故障停機時間。
提高性能,促進批量生產。
電子束蝕刻機,電子束光刻機規格參數
射束電壓范圍20kV-100kV
光膠上的特征尺寸<8nm
500um場的縫合/重疊誤差<25nm
自動加載5卡盤氣鎖系統
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