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脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站PLD是氧化還原系統(tǒng)，脈沖激光沉積（PLD）是一種用于薄膜沉積的多用途工藝，其主要*點是將化學(xué)計量的材料從靶轉(zhuǎn)移到襯底。
SURFACE PLD工作站是一個*秀的薄膜原型制作和研究系統(tǒng)，可方便地獲取新材料，尤其是高級氧化物層。
PLD脈沖激光沉積工作站將PLD系統(tǒng)的所有組件（包括激光和激光氣體供應(yīng)）集成到一個機架中。緊湊的設(shè)計能夠***靈活地使用系統(tǒng)，并避免了許多硬件安裝工作。所有這些都是的多功能性的關(guān)鍵，即使對于沒有PLD技術(shù)經(jīng)驗的用戶，也可以使用脈沖激光沉積PLD！

脈沖激光沉積PLD工作站以強大而緊湊的封裝提供**的沉積技術(shù)，適用于廣泛的應(yīng)用。盡管具有所有內(nèi)置的靈活性，但安全始終是*先事項：
封閉的激光束線，帶有外部驅(qū)動的反射鏡調(diào)節(jié)，可安全地防止暴露于紫外線激光輻射
激光器和激光器氣體柜到外部排氣管

脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站真空室：靈活性良*
工作站視口真空室是為研究而設(shè)計的。它具有適用于***常見的現(xiàn)場分析工具或其他系統(tǒng)擴展的備用法蘭：
光學(xué)分析方法：OES或FTIR
RHEED
質(zhì)譜儀器
額外的沉積或等離子源
此外，兩個窗口允許從兩個不同的角度和兩側(cè)對過程進行視覺接觸。大前門可進入主要工藝部件：靶材和基板操縱器。標準配置提供2“基板加熱器和4×2"分度目標操縱器?？蛇x1“基板加熱器和激光加熱器。
為了調(diào)節(jié)工藝條件，標準配置了兩個用于將工藝氣體供應(yīng)至腔室的質(zhì)量流量控制器通道。它們能夠自動控制工藝氣氛和壓力。
通過結(jié)合控制軟件設(shè)計目標操縱器，避免了目標表面上的錐體形成，并保證了目標的均勻磨損。激光束將以兩個不同的入射角照射目標的每個點，因此無法形成影響燒蝕材料化學(xué)計量的錐體。
為了實現(xiàn)均勻的目標磨損，沉積過程中有兩種不同的目標運動模式：
搖擺：目標轉(zhuǎn)盤以連續(xù)運動的方式來回移動，以便激光束在距離目標中心任意半徑處擊中目標。該模式易于設(shè)置，只需知道目標直徑。
掃描：移動目標轉(zhuǎn)盤，使激光束在目標上“寫入"定義的軌跡。調(diào)整目標旋轉(zhuǎn)速度和軌道間距以匹配激光光斑大小和重復(fù)率。這實現(xiàn)了目標表面的非常均勻的磨損。