然而制造鋁鑄件的過程十分困難。若想要讓最終的材料具備所需的性能，則必須注意控制熔體中的元素。*的熔體控制方法是使用直讀光譜儀（OES）進行分析。然而，并非所有的直讀光譜儀都具有相同的性能，必須格外注意鋁，因為某些分析儀可能檢測不出一些必須被控制在極低限值的元素。

日立推出的新型OE720火花光譜儀旨在以吸引人的價格提供高性能。這意味著對于通常需要專業儀器才能檢測的元素，如磷和銻，可以通過OE720在低檢出限下對其進行檢測。

OE720低檢出限對于鋁熔煉控制非常重要

OE720光譜儀新設計的光學系統提供了更高級別的光學分辨率，CMOS檢測器技術可確保在極低檢出限下檢測多種元素。這意味著，可以在近共晶和過共晶鋁硅合金中檢測出含量低至20ppm的磷，并且可以控制銻、鉍、鋰、鍶和鈉的含量，以確保最佳的結構改進。

這一高性能功能使用戶能夠驗證鋁熔體中的雜質元素磷、鈣、鉍和銻是否符合120ppm的最大總量。

下表顯示OE720在關鍵鋁元素上的性能：