為符合材料規范，必須測試所有事項?，F行規范已超過許多中端OES光譜儀所能處理的范圍。OES光譜儀對許多企業而言遙不可及，可能不適合高產量生產環境。日立分析儀器的新型OE750便為解決此問題而應運而生。

介紹OE750：專為全新級OES分析而設計

這款OES光譜儀具有較高的性能，但其購買*，運行成本合理。目前，是能夠實現全新級OES分析的光譜儀，例如：

• 分析鋼鐵中所有合金、處理、痕量元素、殘余元素和夾雜元素的能力。OE750能提供極低的檢出限，可檢測含量低于10ppm的銻、硼、鉛、氮、鋅、鉍、硒和碲。
• 符合經修訂的ASTM E415中有關碳鋼和低合金鋼測試方法和ASTM E1086中有關不銹鋼分析標準測試方法的要求。此款分析儀可輕松檢測含量為10ppm的氮元素。
• 允許鋁壓鑄機將近共晶和過共晶鋁-硅合金中的磷、銻和鉍的含量控制在極低限值內。控制此類元素及其他夾雜元素和痕量元素可確保鋁加工廠對優化熔體結構具備更強的控制能力。
• 輕松檢測含量為1ppm的廢金屬中的痕量元素，包括鋅。這對回收汽車部件或分揀來料廢品至關重要。
• 通過分析氮、氧和氫等氣體元素，控制鈦的生產。
• 分析精煉廠中銅陽極以及鑄造廠中黃銅、青銅、錫青銅和其他銅合金的潛力。
• 全面的痕量元素分析，用于支持金屬加工和成型廠所用進料的材料可靠性鑒定測試。

此款光譜儀的這些能力可確保鑄造廠和金屬加工廠*無需出于成本考量而降低性能標準。對于鑄造廠、煉鋼廠、金屬制造商和廢金屬廠而言，OE750以具有成本效益的價格，提供全新級OES分析。

高效質量控制，符合標準

OE750在同類產品中具有較佳光學分辨率，并涵蓋金屬中元素的整個光譜，能提供某些低檢出限。此性能通過構思新光學概念和發展其他技術創新而實現，例如新型密封火花臺和火花放光源。

額外優點（例如：啟動速度加快，維護間隔縮短）確保光譜儀支持高產量生產和100% 的PMI質量保證計劃。