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當前位置：日立分析儀器（上海）有限公司>>技術文章>>LIBS、XRF或OES — 金屬分析設備的選型手冊
近年來，材料分析領域發生了迅猛變化。諸如光學發射光譜（OES）、X射線熒光（XRF）和激光誘導擊穿光譜（LIBS）等技術的持續發展與應用使其更適用于各行各業的公司。
無論是質量保證/質量控制流程（QA/QC）、材料分選、材料可靠性鑒定（PMI）還是科學分析，您均可使用現有產品在現場和移動中進行材料測試。
許多公司會問：哪種技術適合我們？
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