上海美析儀器有限公司
電感耦合等離子體質譜在半導體高純材料分析中的應用
檢測樣品：半導體高純材料
檢測項目：痕量雜質元素
方案概述：本文綜述了近十幾年來電感耦合等離子體質譜（ICP-MS）在半導體行業高純材料分析方面的應用，分別討論了 IC 硅片表面、光伏硅材料、三氯氫硅、四氯化硅、高純試劑、超純水、高純氣等物質中痕量雜質元素的分析方法。
本文綜述了近十幾年來電感耦合等離子體質譜（ICP-MS）在半導體行業高純材料分析方面的應用，分別討論了 IC 硅片表面、光伏硅材料、三氯氫硅、四氯化硅、高純試劑、超純水、高純氣等物質中痕量雜質元素的分析方法。
電感耦合等離子體質譜（ICP-MS）是80 年代發展起來的新的檢測技術，已成為當代蕞薔有力的元素分析手段之一，其以桌越的痕量分析能力，被廣泛應用于多個領域。對痕量分析要求最高的，莫過于在半導體工業中對高純材料的雜質分析，本文對近十幾年來電感耦合等離子體質譜在半導體工業高純材料方面的分析應用做一綜述，分別討論了IC硅片表面、光伏硅材料、三氯氫硅、四氯化硅、高純試劑、超純水、高純氣等物質中痕量雜質元素的分析方法。
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