真空鍍膜電源產品結構合理，可靠性強。該電源以其體積小、重量輕、高效率、高可靠的*性能成為可控硅電源的更新換代產品。適用于實驗、氧化、電解、鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍鉻、光電、冶煉、化成、腐蝕等各種精密表面處理場所。在陽極氧化、真空鍍膜、電解、電泳、水處理、電子產品老化、電加熱、電化學等方面也得到用戶*好評。特別是在PCB、電鍍、電解行業領域,成為眾多客戶的*電源產品。 真空鍍膜電源--特點: 1、體積小、重量輕：體積與重量為可控硅整流器的1/5-1/10，便于您規劃、擴建、移動、維護和安裝。 2、節能效果好：開關電源由于采用了高頻變壓器，轉換效率大大提高，正常情況下較可控硅設備提高效率10%以上，負載率達70%以下時較可控硅設備提高效率30%以上。 3、輸出穩定性高：由于系統反應速度快（微秒級），對于網電及負載變化具有*的適應性，輸出精度可優于1%。開關電源的工作效率高、所以控制精度高，有利于提高產品質量。 4、輸出波形易于調制：由于工作頻率高，其輸出波形調整相對處理成本較低，可以較方便的按照用戶工藝要求改變輸出波形。這樣對于工作現場提高工效，改善加工產品質量有較強作用。 --技術指標: 輸入電壓 AC380V/AC220V 輸出特性 恒流/恒壓可轉換 （ 0~額定值 ） 輸出波形 高頻方波、直流及疊加波形調節精度 ≤1% 效　　率 ≥89% 功率因數 ≤90% 保護方式 過壓、欠壓、過熱、過流冷卻方式 風冷或水冷可選配置 PLC接口環境溫度 -20℃-45℃ 環境濕度 ≤80% 絕緣等級 B級防護等級 IP20 --應用特點: 1、 降低孔隙率,晶核的形成速度大于成長速度,促使晶核細化。 2、 改善結合力,使鈍化膜擊穿,有利于基體與鍍層之間牢固的結合。 3、 改善覆蓋能力和分散能力,高的陰極負電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積,減緩形態復雜零件的突出部位由于沉積離子過度消耗而帶來的“燒焦”“樹枝狀”沉積的缺陷,對于獲得一個給定特性鍍層（如顏色、無孔隙等）的厚度可減少到原來1/3~1/2,節省原材料。 4、 降低鍍層的內應力,改善晶格缺陷、雜質、空洞、瘤子等,容易得到無裂紋的鍍層,減少添加劑。 5、 有利于獲得成份穩定的合金鍍層。 6、 改善陽極的溶解,不需陽極活化劑。 7、 改進鍍層的機械物理性能,如提高密度降低表面電阻和體電阻,提高韌性、耐磨性、抗蝕性而且可以控制鍍層硬度。傳統的電鍍抑制副作用的產生、改善電流分布、調節液相傳質過程、控制結晶取向顯得毫無作用,面對絡合劑和添加劑的研究成了電鍍工藝研究的主要方向。納米開關電源解決了傳統--存在的缺陷。 ★ 我司可據客戶要求快速定制各類特殊規格用于不同功能用途的大功率電源產品。 （電流10A～20000A,電壓3V～600V）,生產周期一周左右。產品一年免費保修,終身維護,可免費為客戶培訓維修人員.