Wafer溫度實時檢測裝置
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 巨力科技有限公司
- 品牌
- 型號
- 產地 美國
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2017/7/21 11:14:48
- 訪問次數 1027
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可控環境型微納米力學測試系統,超納米壓痕儀,納米壓痕儀,動態超顯微硬度計,超顯微硬度計,納米硬度計,納米劃痕儀,顯微劃痕儀,大載荷劃痕儀,納米摩擦儀,摩擦儀,摩擦試驗機,高溫摩擦試驗機,真空摩擦試驗機,膜厚儀,球磨儀,高精度臺階儀,三維微納米輪廓儀,原子力顯微鏡，薄膜應力測量儀，全息顯微鏡，激光測振儀，激光干涉儀，激光測速儀，光譜型橢偏儀，掃描霍爾探針顯微鏡，精密d33測試儀，薄膜d33測試儀，高溫介電測量系統，表面等離子體共振儀，激光拉曼顯微鏡PCT測試儀，碳納米制備系統，原子層沉積系統，電子束蒸發系統熱蒸發系統超高真空蒸發系統磁控濺射系統分子束外延系統 MBE有機分子束沉積 OMBD等離子增強化學氣相淀積系統 PECVD電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積 ECR-PECVD低能離子減薄儀，離子減薄儀，拋光機，精密切片機，微熱臺
| 技術參數
zui大溫度范圍：室溫~1300攝氏度； 溫度重復性：0.2攝氏度； 溫度分辨率：0.1攝氏度； 穩定性：+/-0.2攝氏度； | ||
| 主要特點
＊實時、非接觸、非入侵、直接的Wafer溫度精確檢測； ＊Wafer表面2D溫度Mapping； ＊zui真實的Wafer表面或薄膜溫度檢測； ＊沉積速率分析； ＊測量激光波長范圍可選（例如：可見光波段、近紅外波段等） ＊避免了發射率變化對測量的影響； ＊無需沉積設備Viewport特殊涂層； | ||
*的半導體溫度測量裝置，對Wafer（及薄膜）表面溫度實時、非接觸、非入侵、zui直接的檢測；采用溫度和半導體材料對光的吸收邊沿（頻帶能量）相關性原理，即材料的本征特性，使得測量結果更為準確；可裝載到MBE、MOCVD、濺射、蒸發系統等和熱處理、退火設備上，進行實時溫度檢測。 | ||
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