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合肥半導體MIKASA涂布旋涂機合肥半導體MIKASA涂布旋涂機
日本MIKASA米卡薩株式會社 日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗鈽機，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗怖機，真空泵日本MIKASA株式會社中國代理: MIKASA光刻機.旋轉塗鈽機，真空泵 半導體制造工序中的Mikasa半導體設備
晶園、洗滌**晶園表面的臟污及
各種金屬離子、成膜
在高溫擴散爐中，形成、表面氧化膜
電路圖案設計、運用CAD制作布局、布線
設計圖。制作光掩膜
將電路圖案沖印到中間掩、模上(原版照片)
光刻膠涂布、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶
圓表面，形成厚度均一的薄膜。
旋轉涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合，復制電路
圖案。
光刻機(P13~P15)
MIKASA米卡薩旋轉涂布機可選組件
顯影、去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
顯影裝置(P17. 18)、蝕刻
通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路。
蝕刻裝置(P19)
離子注入/濺射
向晶園注入離子(混雜物)
滴液裝置可選組件 吸盤
●MS-B100/ MS-B150
●MS-B200
●MS-B300
●MS-B200 (密閉型)
●MS-B300 (密閉型)
日本MIKASA光刻機
MA-10
●MA-20
●MA-60F
●M-2LF
●M-1S
日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶園重合，復制電路圖案。
日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching
日本MIKASA旋轉涂布機MS-A150/MS-B150現貨現貨旋轉涂膜儀
去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
●AD-1200
●AD-3000
●PD-1000
日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置
●ED-1200
●ED-3000
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