全自動去膠清洗機 芯矽科技
參考價 | ¥ 10000 |
訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 蘇州芯矽電子科技有限公司
- 品牌 芯矽科技
- 型號
- 產(chǎn)地 蘇州市工業(yè)園區(qū)江浦路41號
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/7/14 16:09:11
- 訪問次數(shù) 24
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非標(biāo)定制 | 根據(jù)客戶需求定制 |
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全自動去膠清洗機是用于去除半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)玻璃、鋰電池極片等材料表面光刻膠、殘留化學(xué)品或污染物的自動化設(shè)備。其核心功能包括:
高效去膠:通過化學(xué)腐蝕、超聲波振動、等離子體處理或高溫分解等方式,快速剝離光刻膠(如正膠、負(fù)膠)及固化污染物。
精密清洗:配合溶劑(如NMP、DMF)、酸性/堿性溶液或純水,清除微小顆粒、金屬離子殘留,確保表面潔凈度達(dá)到納米級。
全流程自動化:實現(xiàn)上料、清洗、干燥、下料等環(huán)節(jié)無人化操作,兼容MES系統(tǒng)對接,支持工藝參數(shù)追溯。
技術(shù)原理與分類
去膠技術(shù)類型
化學(xué)法:利用強氧化劑(如硫酸、過氧化氫)或有機溶劑溶解膠層,適用于正性光刻膠。
超聲波法:通過高頻振動空化效應(yīng)剝離膠體,適合復(fù)雜圖案或高黏附力殘留。
等離子體法:氧離子轟擊表面,分解有機物,用于去除頑固殘膠或干膜。
熱分解法:高溫(300-500℃)裂解膠體分子,常用于硬質(zhì)材料(如石英、陶瓷)。
清洗模式
噴淋式:噴頭均勻噴灑藥液,適用于大面積平面清洗。
浸泡式:槽式循環(huán)浸沒清洗,適合高深寬比結(jié)構(gòu)(如TSV孔隙)。
刷擦式:旋轉(zhuǎn)刷頭配合化學(xué)液,清除邊緣或縫隙殘留。
干燥技術(shù)
離心干燥、熱風(fēng)干燥、真空烘干或IPA(異丙醇)置換干燥,防止水痕或二次污染。
設(shè)備架構(gòu)與關(guān)鍵模塊
進料系統(tǒng):
自動加載晶圓盒(Cassette)或單片輸送,支持12英寸/8英寸晶圓或定制尺寸。
視定位系統(tǒng)(CCD/AI視覺)校準(zhǔn)晶圓位置,避免偏移損傷。
清洗腔體:
多槽分區(qū)設(shè)計(預(yù)洗→主洗→漂洗→干燥),獨立溫控(±1℃)與液體循環(huán)過濾(0.1μm級顆粒過濾)。
耐腐蝕材料(PFA、PTFE、石英)腔體,適應(yīng)強酸/堿環(huán)境。
藥液管理:
自動配比系統(tǒng):精確調(diào)配化學(xué)濃度(如SC1液、DHF液),實時監(jiān)測pH/ORP值。
廢液處理:中和反應(yīng)+蒸餾回收,降低環(huán)保成本。
控制系統(tǒng):
人機界面(HMI)設(shè)定參數(shù)(時間、溫度、流速),支持Recipe配方存儲與調(diào)用。
物聯(lián)網(wǎng)(IoT)遠(yuǎn)程監(jiān)控,故障報警與維護提示。
應(yīng)用場景與行業(yè)價值
半導(dǎo)體制造:
光刻后堅膜去除(正膠剝離)、蝕刻后殘留物清洗、封裝前界面預(yù)處理。
提升芯片良率,避免因膠殘留導(dǎo)致電性能失效或分層缺陷。
光學(xué)玻璃加工:
去除AR/ASML鍍膜前的光刻膠,確保光學(xué)級表面平整度(Ra<0.5nm)。
新能源領(lǐng)域:
鋰電池極片涂布后殘膠清洗,提升電池能量密度與安全性。
光伏硅片切割后漿料去除,減少EL測試中的隱裂風(fēng)險。