Model 30 準直紫外光源及曝光系統
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 德國韋氏納米系統有限公司
- 品牌 OAI
- 型號
- 產地 美國
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2025/7/10 13:29:19
- 訪問次數 19
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產地類別 | 進口 |
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Model 30 準直紫外光源及曝光系統
OAI 的獨立式紫外泛光曝光系統,適用于深紫外、中紫外或近紫外。系統包括強度控制、雙波長傳感器和精密曝光定時器。從靈活性角度設計,該系統可用作獨立單元,集成到晶圓旋轉軌道上,或通過使用一個或兩個燈箱以及各種光路方向,以多種其他配置形式使用。在深紫外波段,可實現單級或多級高分辨率光刻,光譜峰值為 220、260 或 310 納米。近紫外系統功率范圍為 200 至 2000 瓦,深紫外系統為 500 至 2000 瓦 。
燈發出的能量被導向主介質鏡,主介質鏡反射所需能量并濾除不需要的輻射。可調節的光學積分器提高能量均勻性,并能控制能量和光束發散度。能量在曝光平面均勻分布并被準直。透過副鏡的能量由一個調諧到所需波長的光學探測器測量,并傳輸到恒定強度控制器,該控制器補償燈的老化和功率波動,將光線控制在 ±2% 以內。雙通道控制器可在 0.1 或 1.0 秒的增量下設置為 0 到 999 秒。
OAI 紫外曝光系統以長期可靠性和高效率著稱。它們的設計便于從一個波長區域轉換到另一個波長區域,并有多種帶通鏡組可供選擇 。
應用領域
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